反应腔和MOCVD设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310335774.5
申请日
2013-08-02
公开(公告)号
CN104342751A
公开(公告)日
2015-02-11
发明(设计)人
涂冶
申请人
申请人地址
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
C30B2502
IPC分类号
C30B2508 C30B2512 C30B2514
代理机构
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
彭瑞欣;张天舒
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
反应腔和MOCVD设备 [P]. 
袁福顺 .
中国专利 :CN104746037B ,2015-07-01
[2]
托盘、MOCVD反应腔和MOCVD设备 [P]. 
李红 .
中国专利 :CN103938186A ,2014-07-23
[3]
一种反应腔室和MOCVD设备 [P]. 
涂冶 .
中国专利 :CN103820769B ,2014-05-28
[4]
MOCVD反应腔及MOCVD设备 [P]. 
徐亚伟 .
中国专利 :CN103628039A ,2014-03-12
[5]
用于MOCVD设备反应腔的测量装置 [P]. 
尧舜 ;
刘晨晖 ;
董国亮 .
中国专利 :CN113340180B ,2021-09-03
[6]
用于卧式MOCVD设备的反应腔壳 [P]. 
徐国强 ;
张丽娜 ;
闻洁 .
中国专利 :CN118086863B ,2025-10-31
[7]
用于卧式MOCVD设备的反应腔壳 [P]. 
徐国强 ;
张丽娜 ;
闻洁 .
中国专利 :CN118086863A ,2024-05-28
[8]
反应腔室及设置有该反应腔室的MOCVD设备 [P]. 
袁福顺 .
中国专利 :CN104233460B ,2014-12-24
[9]
MOCVD设备的反应装置及MOCVD设备 [P]. 
王志升 .
中国专利 :CN209081979U ,2019-07-09
[10]
一种垂直反应腔MOCVD设备喷淋头装置 [P]. 
贲建伟 ;
孙晓娟 ;
黎大兵 ;
蒋科 ;
张山丽 ;
吕顺鹏 .
中国专利 :CN117822104A ,2024-04-05