共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
一种反应腔室和MOCVD设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201210464900.2
申请日：
2012-11-16
公开(公告)号：
CN103820769B
公开(公告)日：
2014-05-28
发明(设计)人：
涂冶
申请人：
申请人地址：
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
C23C1644
IPC分类号：
C23C16458
C23C1630
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;张天舒
法律状态：
授权
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2016-08-31 | 授权 | 授权 |
| 2014-05-28 | 公开 | 公开 |
| 2017-10-10 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101760555029 IPC(主分类):C23C 16/44 专利号:ZL2012104649002 变更事项:专利权人 变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 变更后:北京北方华创微电子装备有限公司 变更事项:地址 变更前:100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 变更后:100176 北京经济技术开发区文昌大道8号 |
| 2014-06-25 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583215690 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2012104649002 申请日:20121116 |