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半导体装置和半导体装置的断电方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810910391.9
申请日
:
2018-08-10
公开(公告)号
:
CN109428572A
公开(公告)日
:
2019-03-05
发明(设计)人
:
全浩渊
金大焕
李永勋
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H03K1704
IPC分类号
:
H03K1724
H03K1756
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
赵南;张青
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-03-05
公开
公开
2020-09-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H03K 17/04 申请日:20180810
共 50 条
[1]
半导体装置和半导体装置的断电方法
[P].
全浩渊
论文数:
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引用数:
0
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
全浩渊
;
金大焕
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金大焕
;
李永勋
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0
机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李永勋
.
韩国专利
:CN109428572B
,2024-03-22
[2]
半导体封装件、半导体装置和半导体装置的操作方法
[P].
李卓键
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李卓键
;
巴拉斯·库马尔·N
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
巴拉斯·库马尔·N
;
金圣闰
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金圣闰
;
金周永
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金周永
;
朴东旭
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴东旭
;
成耆焕
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
成耆焕
;
李慧文
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李慧文
.
韩国专利
:CN121055936A
,2025-12-02
[3]
半导体结构、半导体装置、和制造半导体装置的方法
[P].
萨万特·钱德拉谢卡尔·普拉卡斯
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萨万特·钱德拉谢卡尔·普拉卡斯
;
蔡家铭
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蔡家铭
;
范彧达
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范彧达
;
余典卫
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余典卫
.
中国专利
:CN113327925A
,2021-08-31
[4]
半导体装置、半导体装置制造方法和半导体单元
[P].
横山孝司
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横山孝司
;
梅林拓
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梅林拓
.
中国专利
:CN104425439A
,2015-03-18
[5]
半导体装置制造方法、半导体装置和半导体芯片
[P].
谷田一真
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谷田一真
;
梅本光雄
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梅本光雄
;
秋山雪治
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秋山雪治
.
中国专利
:CN100563005C
,2005-09-28
[6]
半导体装置,半导体装置的制造方法,半导体基板,和半导体基板的制造方法
[P].
秦雅彦
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秦雅彦
;
福原升
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福原升
;
山田永
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山田永
;
高木信一
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高木信一
;
杉山正和
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杉山正和
;
竹中充
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竹中充
;
安田哲二
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安田哲二
;
宫田典幸
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宫田典幸
;
板谷太郎
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板谷太郎
;
石井裕之
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石井裕之
;
大竹晃浩
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大竹晃浩
;
奈良纯
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奈良纯
.
中国专利
:CN102239549B
,2011-11-09
[7]
半导体装置、半导体装置的制造方法、半导体基板、和半导体基板的制造方法
[P].
秦雅彦
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秦雅彦
;
福原升
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福原升
;
山田永
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山田永
;
高木信一
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高木信一
;
杉山正和
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杉山正和
;
竹中充
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竹中充
;
安田哲二
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安田哲二
;
宫田典幸
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宫田典幸
;
板谷太郎
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板谷太郎
;
石井裕之
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石井裕之
;
大竹晃浩
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大竹晃浩
;
奈良纯
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奈良纯
.
中国专利
:CN103474354A
,2013-12-25
[8]
半导体装置和半导体系统
[P].
孙裕硕
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孙裕硕
;
金相佑
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金相佑
;
李炳卓
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李炳卓
;
权润周
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权润周
;
赵俊佑
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赵俊佑
.
中国专利
:CN110018712A
,2019-07-16
[9]
半导体装置和半导体系统
[P].
金晓勤
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机构:
爱思开海力士有限公司
爱思开海力士有限公司
金晓勤
;
朴珉秀
论文数:
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机构:
爱思开海力士有限公司
爱思开海力士有限公司
朴珉秀
.
韩国专利
:CN121029647A
,2025-11-28
[10]
半导体装置和半导体装置的制造方法
[P].
山口正臣
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山口正臣
.
中国专利
:CN100352017C
,2005-10-05
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