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一种等离子体室和等离子体系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811196038.5
申请日
:
2016-04-15
公开(公告)号
:
CN109411323A
公开(公告)日
:
2019-03-01
发明(设计)人
:
丹尼尔·阿瑟·布朗
约翰·帕特里克·霍兰德
迈克尔·C·凯洛格
詹姆斯·E·塔潘
杰雷尔·K·安托利克
伊恩·肯沃西
特奥·帕纳戈波罗斯
陈志刚
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
H01L2167
代理机构
:
上海胜康律师事务所 31263
代理人
:
樊英如;张静
法律状态
:
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-23
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01J 37/32 申请公布日:20190301
2019-03-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160415
2019-03-01
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体系统和等离子体装置
[P].
具一教
论文数:
0
引用数:
0
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具一教
;
赵真薰
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赵真薰
;
崔明烈
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崔明烈
;
C·A·穆尔
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C·A·穆尔
;
G·J·柯林斯
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G·J·柯林斯
.
中国专利
:CN203850245U
,2014-09-24
[2]
等离子体系统和等离子体装置
[P].
具一教
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具一教
;
崔明烈
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崔明烈
;
D·海厄特
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D·海厄特
;
A·扎格罗兹基
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A·扎格罗兹基
;
D·A·亨德里克森
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D·A·亨德里克森
;
G·J·柯林斯
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G·J·柯林斯
.
中国专利
:CN203734909U
,2014-07-23
[3]
等离子体设备和等离子体系统
[P].
成晓阳
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成晓阳
;
韦刚
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韦刚
.
中国专利
:CN110828273B
,2020-02-21
[4]
等离子体系统及等离子体系统电路
[P].
W·加耶夫斯基
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机构:
通快许廷格有限公司
通快许廷格有限公司
W·加耶夫斯基
.
:CN222869106U
,2025-05-13
[5]
用于调制等离子体系统的等离子体传递系统
[P].
G·范齐尔
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0
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机构:
先进工程解决方案全球控股私人有限公司
先进工程解决方案全球控股私人有限公司
G·范齐尔
.
:CN113243144B
,2024-12-27
[6]
用于调制等离子体系统的等离子体传递系统
[P].
G·范齐尔
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G·范齐尔
.
中国专利
:CN113243144A
,2021-08-10
[7]
等离子体源线圈和使用该等离子体源线圈的等离子体室
[P].
金南宪
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金南宪
;
李堵汉
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李堵汉
;
吴荣根
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吴荣根
.
中国专利
:CN1938824A
,2007-03-28
[8]
一种等离子体的电源电路、等离子体设备及等离子体系统
[P].
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机构:
肖经
;
蔡凯达
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机构:
桂林电子科技大学
桂林电子科技大学
蔡凯达
;
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机构:
贾岩岩
;
唐秋辉
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机构:
桂林电子科技大学
桂林电子科技大学
唐秋辉
;
苏幸伟
论文数:
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机构:
桂林电子科技大学
桂林电子科技大学
苏幸伟
.
中国专利
:CN120222839A
,2025-06-27
[9]
等离子体系统、等离子体处理方法以及等离子体刻蚀方法
[P].
吴世真
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吴世真
;
禹济宪
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禹济宪
;
赵忠镐
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赵忠镐
;
成德镛
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成德镛
;
梁章奎
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梁章奎
;
郑在哲
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郑在哲
.
中国专利
:CN106920734A
,2017-07-04
[10]
用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源
[P].
金南宪
论文数:
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0
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金南宪
.
中国专利
:CN101040366A
,2007-09-19
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