等离子体设备和等离子体系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810903582.2

申请日：

2018-08-09

公开(公告)号：

CN110828273B

公开(公告)日：

2020-02-21

发明(设计)人：

成晓阳韦刚

申请人：

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;姜春咸

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20180809
2022-07-22	授权	授权
2020-02-21	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体系统和等离子体装置 [P].

具一教 ;

赵真薰 ;

崔明烈 ;

C·A·穆尔 ;

G·J·柯林斯 .

中国专利 :CN203850245U ,2014-09-24

[2]

等离子体系统和等离子体装置 [P].

具一教 ;

崔明烈 ;

D·海厄特 ;

A·扎格罗兹基 ;

D·A·亨德里克森 ;

G·J·柯林斯 .

中国专利 :CN203734909U ,2014-07-23

[3]

等离子体设备和等离子体处理方法 [P].

叶江波 ;

钱俊 ;

肖禄 .

中国专利 :CN109564987A ,2019-04-02

[4]

一种等离子体的电源电路、等离子体设备及等离子体系统 [P].

肖经 ;

蔡凯达 ;

贾岩岩 ;

唐秋辉 ;

苏幸伟 .

中国专利 :CN120222839A ,2025-06-27

[5]

等离子体系统及等离子体系统电路 [P].

W·加耶夫斯基 .

:CN222869106U ,2025-05-13

[6]

等离子体设备和系统 [P].

弗拉基米尔·E·贝拉斯琴科 ;

奥列格·P·索洛伦科 ;

安德里·V·斯米尔诺夫 .

中国专利 :CN101605663B ,2009-12-16

[7]

等离子体系统、等离子体处理方法以及等离子体刻蚀方法 [P].

吴世真 ;

禹济宪 ;

赵忠镐 ;

成德镛 ;

梁章奎 ;

郑在哲 .

中国专利 :CN106920734A ,2017-07-04

[8]

一种等离子体室和等离子体系统 [P].

丹尼尔·阿瑟·布朗 ;

约翰·帕特里克·霍兰德 ;

迈克尔·C·凯洛格 ;

詹姆斯·E·塔潘 ;

杰雷尔·K·安托利克 ;

伊恩·肯沃西 ;

特奥·帕纳戈波罗斯 ;

陈志刚 .

中国专利 :CN109411323A ,2019-03-01

[9]

等离子体装置和等离子体沉积设备 [P].

李翔 ;

种展鹏 ;

袁红霞 ;

王娟 ;

姚俊 .

中国专利 :CN119943637B ,2025-11-04

[10]

等离子体装置和等离子体沉积设备 [P].

李翔 ;

种展鹏 ;

袁红霞 ;

王娟 ;

姚俊 .

中国专利 :CN119943637A ,2025-05-06

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