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等离子体装置和等离子体沉积设备

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510097550.8
申请日：
2025-01-21
公开(公告)号：
CN119943637B
公开(公告)日：
2025-11-04
发明(设计)人：
李翔 种展鹏 袁红霞 王娟 姚俊
申请人：
江苏微导纳米科技股份有限公司
申请人地址：
214028 江苏省无锡市新吴区长江南路27号
IPC主分类号：
H01J37/32
IPC分类号：
H01J37/04
代理机构：
北京市盈科律师事务所 11344
代理人：
张晶
法律状态：
授权
国省代码：
江苏省 无锡市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-11-04 授权 授权
2025-05-23 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/32申请日:20250121
2025-05-06 公开 公开
共 50 条
[1]
等离子体装置和等离子体沉积设备 [P]. 
李翔 ;
种展鹏 ;
袁红霞 ;
王娟 ;
姚俊 .
中国专利 :CN119943637A ,2025-05-06
[2]
等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P]. 
山本薰 ;
金昌炫 ;
宋伣在 ;
申建旭 ;
申铉振 ;
安星柱 ;
李章熙 ;
李昌锡 ;
全基荣 ;
郑根吾 .
中国专利 :CN110880447A ,2020-03-13
[3]
等离子体沉积方法和等离子体沉积设备 [P]. 
山本薰 ;
金昌炫 ;
宋伣在 ;
申建旭 ;
申铉振 ;
安星柱 ;
李章熙 ;
李昌锡 ;
全基荣 ;
郑根吾 .
韩国专利 :CN110880447B ,2024-04-09
[4]
等离子体沉积 [P]. 
盖·詹姆斯·雷诺兹 ;
康纳·尼古拉斯·马丁 ;
彼得·格洛瓦茨基 ;
玛丽-皮埃尔·弗朗索瓦兹·温特伯特埃普富凯 ;
萨蒂亚纳拉扬·巴利克 ;
帕特里克·坡-曾·陈 .
中国专利 :CN102395704B ,2012-03-28
[5]
等离子体沉积设备 [P]. 
斯蒂芬·理查德·库尔森 ;
查尔斯·埃德蒙·金 .
中国专利 :CN101743071A ,2010-06-16
[6]
等离子体沉积装置 [P]. 
孟杰 ;
胡广严 ;
吴孝哲 ;
吴龙江 ;
林宗贤 .
中国专利 :CN208949405U ,2019-06-07
[7]
等离子体沉积装置 [P]. 
许明洙 ;
高锡珍 ;
高东均 ;
金民洙 ;
金圣哲 ;
卢喆来 ;
李秉春 .
中国专利 :CN107083542A ,2017-08-22
[8]
等离子体沉积装置 [P]. 
董海青 ;
申鹏 .
中国专利 :CN211497785U ,2020-09-15
[9]
等离子体处理方法和等离子体装置 [P]. 
友安昌幸 .
中国专利 :CN100401481C ,2005-07-20
[10]
等离子体装置 [P]. 
苏恒毅 .
中国专利 :CN108882494B ,2018-11-23
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