耐等离子体腐蚀部件及其制备方法，等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010236789.6

申请日：

2020-03-30

公开(公告)号：

CN113522688B

公开(公告)日：

2021-10-22

发明(设计)人：

孙祥段蛟陈星建

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

B05D300

IPC分类号：

B05D302 B05D306 B05D314 B05D500 B05D700 B05D724 B28B100 B33Y1000 B33Y3000 B33Y4000 B33Y7000 B33Y7010 B33Y8000 C23C2410

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司 31323

代理人：

徐雯琼;张静洁

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

等离子体处理设备以及等离子体处理方法 [P].

黄振华 .

中国专利 :CN113035677B ,2021-06-25

[2]

形成耐等离子体涂层的方法、装置、零部件和等离子体处理装置 [P].

段蛟 ;

郭盛 ;

孙祥 ;

陈星建 .

中国专利 :CN112899617A ,2021-06-04

[3]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[4]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[5]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[6]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

山崎圭一 ;

猪冈结希子 ;

泽田康志 ;

田口典幸 ;

中园佳幸 ;

仲野章生 .

中国专利 :CN1165208C ,2002-02-06

[7]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

有田洁 .

中国专利 :CN1669109A ,2005-09-14

[8]

等离子体处理方法和等离子体处理设备 [P].

奥村智洋 ;

佐佐木雄一朗 ;

冈下胜己 ;

金成国 ;

前嶋聪 ;

伊藤裕之 ;

中山一郎 ;

水野文二 .

中国专利 :CN101053066A ,2007-10-10

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

小林义之 .

中国专利 :CN100508116C ,2007-09-26

[10]

等离子体屏蔽组件和等离子体处理设备 [P].

林垠赞 ;

柳海永 ;

李殷守 ;

朴瑄昱 ;

张容文 ;

朴炫九 ;

李在龙 .

韩国专利 :CN222705440U ,2025-04-01

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B05D 3/00 申请日:20200330
2022-12-30	授权	授权
2021-10-22	公开	公开