一种芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液用非离子表面活性剂的提纯方法及其显影液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110241380.8

申请日：

2021-03-04

公开(公告)号：

CN112859551A

公开(公告)日：

2021-05-28

发明(设计)人：

李潇逸邢攸美方伟华倪芸岚尹云舰高立江

申请人：

申请人地址：

311228 浙江省杭州市萧山区红十五路9936号

IPC主分类号：

G03F732

IPC分类号：

C08G6530 B01F1700

代理机构：

北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435

代理人：

奚丽萍

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-28	公开	公开
2021-06-15	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/32 申请日:20210304

共 50 条

[1]

一种芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液及其制备方法 [P].

刘颂军 ;

孙炜 ;

冯亚楠 ;

许光 ;

贾成林 ;

金旭 ;

郭双环 ;

秦龙 ;

李燕军 .

中国专利 :CN115390375B ,2025-06-27

[2]

一种芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液及其制备方法 [P].

刘颂军 ;

孙炜 ;

冯亚楠 ;

许光 ;

贾成林 ;

金旭 ;

郭双环 ;

秦龙 ;

李燕军 .

中国专利 :CN115390375A ,2022-11-25

[3]

一种四甲基氢氧化铵显影液及其制备方法和应用 [P].

金炳生 ;

高小云 ;

傅华 ;

刘耀鹏 ;

谢汪洋 ;

杨亮亮 ;

刘兵 .

中国专利 :CN114859677B ,2025-09-26

[4]

一种四甲基氢氧化铵显影液及其制备方法和应用 [P].

金炳生 ;

高小云 ;

傅华 ;

刘耀鹏 ;

谢汪洋 ;

杨亮亮 ;

刘兵 .

中国专利 :CN114859677A ,2022-08-05

[5]

一种从四甲基氢氧化铵显影液废水中回收四甲基氢氧化铵的方法 [P].

沈江南 ;

吴可 ;

王积宽 ;

张宇 ;

俞良钰 .

中国专利 :CN121063742A ,2025-12-05

[6]

非离子表面活性剂及其制备方法及用途、光刻胶显影液 [P].

李琳 .

中国专利 :CN102652910A ,2012-09-05

[7]

一种半导体集成电路用显影液 [P].

江磊 ;

金旭 .

中国专利 :CN103955120A ,2014-07-30

[8]

一种用于半导体集成电路中的显影液 [P].

江磊 ;

金旭 .

中国专利 :CN103955119A ,2014-07-30

[9]

氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法 [P].

黄教忠 .

中国专利 :CN101452224A ,2009-06-10

[10]

氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法 [P].

黄教忠 .

中国专利 :CN1567090A ,2005-01-19

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