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用于镜头保护片的蚀刻装置和基于该装置的蚀刻方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911135977.3
申请日
:
2019-11-19
公开(公告)号
:
CN110746119B
公开(公告)日
:
2020-02-04
发明(设计)人
:
付雄鹰
申请人
:
申请人地址
:
610500 四川省成都市新都区工业东区创业路69号
IPC主分类号
:
C03C1500
IPC分类号
:
C09K1308
代理机构
:
成都三诚知识产权代理事务所(普通合伙) 51251
代理人
:
成实;饶振浪
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-02-04
公开
公开
2022-02-08
授权
授权
2020-02-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 15/00 申请日:20191119
共 50 条
[1]
蚀刻装置和蚀刻方法
[P].
藤田阳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
藤田阳
.
中国专利
:CN112185846A
,2021-01-05
[2]
蚀刻装置和蚀刻方法
[P].
藤田阳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
藤田阳
.
日本专利
:CN112185846B
,2025-01-10
[3]
蚀刻方法和蚀刻装置
[P].
曾祥秒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳天华机器设备股份有限公司
深圳天华机器设备股份有限公司
曾祥秒
.
中国专利
:CN119730052B
,2025-11-04
[4]
蚀刻方法和蚀刻装置
[P].
曾祥秒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
深圳天华机器设备股份有限公司
深圳天华机器设备股份有限公司
曾祥秒
.
中国专利
:CN119730052A
,2025-03-28
[5]
晶片蚀刻装置和使用该装置的晶片蚀刻方法
[P].
朴生万
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朴生万
;
吴丞倍
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吴丞倍
.
中国专利
:CN104137234A
,2014-11-05
[6]
蚀刻液的再生方法,蚀刻方法及蚀刻装置
[P].
伊豆田信彦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
伊豆田信彦
;
渡津春留
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
渡津春留
.
中国专利
:CN101303976A
,2008-11-12
[7]
蚀刻方法和蚀刻装置
[P].
原谦一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
原谦一
;
早川崇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
早川崇
.
中国专利
:CN103069547A
,2013-04-24
[8]
蚀刻方法和蚀刻装置
[P].
高桥信博
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高桥信博
;
萩原彩乃
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
萩原彩乃
;
福田智朗
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
福田智朗
;
铃木健斗
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
铃木健斗
;
今井佑辅
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
今井佑辅
.
日本专利
:CN119678245A
,2025-03-21
[9]
蚀刻方法和蚀刻装置
[P].
高桥信博
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高桥信博
;
萩原彩乃
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
萩原彩乃
;
浅田泰生
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
浅田泰生
;
山口达也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山口达也
.
日本专利
:CN111755329B
,2024-05-28
[10]
蚀刻方法和蚀刻装置
[P].
须田隆太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
须田隆太郎
;
户村幕树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
户村幕树
.
日本专利
:CN113053745B
,2025-07-25
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