用于镜头保护片的蚀刻装置和基于该装置的蚀刻方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201911135977.3
申请日
2019-11-19
公开(公告)号
CN110746119B
公开(公告)日
2020-02-04
发明(设计)人
付雄鹰
申请人
申请人地址
610500 四川省成都市新都区工业东区创业路69号
IPC主分类号
C03C1500
IPC分类号
C09K1308
代理机构
成都三诚知识产权代理事务所(普通合伙) 51251
代理人
成实;饶振浪
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
蚀刻装置和蚀刻方法 [P]. 
藤田阳 .
中国专利 :CN112185846A ,2021-01-05
[2]
蚀刻装置和蚀刻方法 [P]. 
藤田阳 .
日本专利 :CN112185846B ,2025-01-10
[3]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
曾祥秒 .
中国专利 :CN119730052B ,2025-11-04
[4]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
曾祥秒 .
中国专利 :CN119730052A ,2025-03-28
[5]
晶片蚀刻装置和使用该装置的晶片蚀刻方法 [P]. 
朴生万 ;
吴丞倍 .
中国专利 :CN104137234A ,2014-11-05
[6]
蚀刻液的再生方法,蚀刻方法及蚀刻装置 [P]. 
伊豆田信彦 ;
渡津春留 .
中国专利 :CN101303976A ,2008-11-12
[7]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
原谦一 ;
早川崇 .
中国专利 :CN103069547A ,2013-04-24
[8]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
高桥信博 ;
萩原彩乃 ;
福田智朗 ;
铃木健斗 ;
今井佑辅 .
日本专利 :CN119678245A ,2025-03-21
[9]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
高桥信博 ;
萩原彩乃 ;
浅田泰生 ;
山口达也 .
日本专利 :CN111755329B ,2024-05-28
[10]
蚀刻方法和蚀刻装置 [P]. 
须田隆太郎 ;
户村幕树 .
日本专利 :CN113053745B ,2025-07-25