半导体结构及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200710102224.3
申请日
2007-04-27
公开(公告)号
CN101075585A
公开(公告)日
2007-11-21
发明(设计)人
程慷果 朱慧珑 李佑炯
申请人
申请人地址
美国纽约阿芒克
IPC主分类号
H01L2184
IPC分类号
H01L2120 H01L21762 H01L2712
代理机构
北京市金杜律师事务所
代理人
王茂华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件、半导体结构及其制造方法 [P]. 
郭帅 .
中国专利 :CN114361163A ,2022-04-15
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
蔡永泰 ;
张恕铭 ;
张峻维 ;
陈键辉 ;
刘沧宇 ;
何彦仕 .
中国专利 :CN104037144A ,2014-09-10
[3]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
张皓筌 ;
任楷 .
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
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杨智钧 ;
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
李宗霖 ;
李威养 ;
温明璋 ;
詹前泰 ;
叶致锴 ;
林大文 .
中国专利 :CN119108348A ,2024-12-10
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
王嘉亨 ;
吴以雯 ;
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
李冠儒 ;
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
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