半导体结构及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200710087372.2
申请日
2007-03-14
公开(公告)号
CN100452411C
公开(公告)日
2007-08-22
发明(设计)人
方国龙 杨智钧 林汉涂
申请人
申请人地址
中国台湾新竹
IPC主分类号
H01L2712
IPC分类号
H01L23522 H01L2184 H01L21768
代理机构
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人
梁挥;徐金国
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件、半导体结构及其制造方法 [P]. 
郭帅 .
中国专利 :CN114361163A ,2022-04-15
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
李宗霖 ;
李威养 ;
温明璋 ;
詹前泰 ;
叶致锴 ;
林大文 .
中国专利 :CN119108348A ,2024-12-10
[3]
半导体结构及其制造方法 [P]. 
王嘉亨 ;
吴以雯 ;
李振铭 ;
杨复凯 ;
王美匀 .
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
程慷果 ;
M·D·纳伊姆 ;
D·M·多布金斯基 ;
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
卡尔·拉登斯 ;
理查德·Q·威廉斯 ;
古川俊治 ;
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
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半导体结构及其制造方法 [P]. 
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尹海洲 ;
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