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半导体元器件及制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200810211050.9
申请日
:
2008-08-20
公开(公告)号
:
CN101383342A
公开(公告)日
:
2009-03-11
发明(设计)人
:
闻叶廷
H·希卫斯
申请人
:
申请人地址
:
美国亚利桑那
IPC主分类号
:
H01L2500
IPC分类号
:
H01L23488
H01L23495
H01L2150
H01L2160
代理机构
:
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人
:
秦 晨
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-03-11
公开
公开
2011-05-25
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101093077772 IPC(主分类):H01L 25/00 专利申请号:2008102110509 公开日:20090311
共 50 条
[1]
半导体元器件的制造方法及半导体元器件
[P].
于绍欣
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0
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0
于绍欣
;
金兴成
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金兴成
;
陈晓亮
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0
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陈晓亮
.
中国专利
:CN110957218A
,2020-04-03
[2]
半导体元器件、半导体晶片元器件、半导体元器件的制造方法、及接合结构体的制造方法
[P].
北浦秀敏
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北浦秀敏
;
古泽彰男
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古泽彰男
;
酒谷茂昭
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酒谷茂昭
;
中村太一
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中村太一
;
松尾隆广
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松尾隆广
.
中国专利
:CN102422403A
,2012-04-18
[3]
N沟道半导体元器件的制造方法及N沟道半导体元器件
[P].
金兴成
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金兴成
;
陈晓亮
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陈晓亮
;
陈天
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陈天
.
中国专利
:CN110911282A
,2020-03-24
[4]
半导体元器件和制造方法
[P].
D·埃泽尔特
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D·埃泽尔特
;
S·伊勒克
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S·伊勒克
;
W·施米德
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W·施米德
.
中国专利
:CN100440550C
,2005-10-19
[5]
半导体元器件
[P].
曾繁川
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曾繁川
;
苏健泉
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苏健泉
;
戴威亮
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戴威亮
.
中国专利
:CN207602548U
,2018-07-10
[6]
半导体元器件
[P].
D·埃泽尔特
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D·埃泽尔特
;
S·伊勒克
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S·伊勒克
;
W·施米德
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W·施米德
.
中国专利
:CN101373808B
,2009-02-25
[7]
半导体元器件及其制造方法、电子装置
[P].
金德容
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金德容
;
吴容哲
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吴容哲
.
中国专利
:CN113380713B
,2021-09-10
[8]
薄膜半导体元器件和其制造方法
[P].
P·施陶斯
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P·施陶斯
;
A·普勒斯尔
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A·普勒斯尔
.
中国专利
:CN1745458A
,2006-03-08
[9]
辐射半导体元器件
[P].
R·布滕代希
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R·布滕代希
;
N·林德
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N·林德
;
B·迈尔
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B·迈尔
;
I·皮聪卡
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I·皮聪卡
.
中国专利
:CN1813359A
,2006-08-02
[10]
半导体处理工艺及半导体元器件
[P].
朴相荣
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朴相荣
;
金志勋
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金志勋
;
金玄永
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金玄永
;
徐康元
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徐康元
.
中国专利
:CN113223951B
,2021-08-06
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