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半导体处理工艺及半导体元器件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010072119.5
申请日
:
2020-01-21
公开(公告)号
:
CN113223951B
公开(公告)日
:
2021-08-06
发明(设计)人
:
朴相荣
金志勋
金玄永
徐康元
申请人
:
申请人地址
:
266000 山东省青岛市黄岛区太白山路172号青岛中德生态园双创中心219室
IPC主分类号
:
H01L21285
IPC分类号
:
代理机构
:
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334
代理人
:
肖昀
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-08-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/285 申请日:20200121
2021-08-06
公开
公开
2022-12-02
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体元器件的制造方法及半导体元器件
[P].
于绍欣
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于绍欣
;
金兴成
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金兴成
;
陈晓亮
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陈晓亮
.
中国专利
:CN110957218A
,2020-04-03
[2]
半导体元器件
[P].
曾繁川
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曾繁川
;
苏健泉
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苏健泉
;
戴威亮
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戴威亮
.
中国专利
:CN207602548U
,2018-07-10
[3]
半导体元器件
[P].
D·埃泽尔特
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D·埃泽尔特
;
S·伊勒克
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S·伊勒克
;
W·施米德
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W·施米德
.
中国专利
:CN101373808B
,2009-02-25
[4]
半导体处理工艺及半导体器件的制备方法
[P].
李全波
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李全波
;
黄君
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黄君
;
孟祥国
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孟祥国
;
张瑜
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张瑜
.
中国专利
:CN103871902A
,2014-06-18
[5]
辐射半导体元器件
[P].
R·布滕代希
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R·布滕代希
;
N·林德
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N·林德
;
B·迈尔
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B·迈尔
;
I·皮聪卡
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I·皮聪卡
.
中国专利
:CN1813359A
,2006-08-02
[6]
半导体元器件预处理设备
[P].
张丹丹
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张丹丹
;
刘劭寒
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刘劭寒
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刘磊石
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刘磊石
;
叶飞
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叶飞
.
中国专利
:CN216354145U
,2022-04-19
[7]
半导体元器件、半导体晶片元器件、半导体元器件的制造方法、及接合结构体的制造方法
[P].
北浦秀敏
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北浦秀敏
;
古泽彰男
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古泽彰男
;
酒谷茂昭
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酒谷茂昭
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中村太一
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中村太一
;
松尾隆广
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松尾隆广
.
中国专利
:CN102422403A
,2012-04-18
[8]
半导体后段工艺及半导体器件
[P].
陈亚威
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
陈亚威
;
简志宏
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机构:
无锡华润上华科技有限公司
无锡华润上华科技有限公司
简志宏
.
中国专利
:CN119340197A
,2025-01-21
[9]
半导体设备和半导体硅片处理工艺
[P].
侯欣楠
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侯欣楠
;
程进
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程进
;
石金川
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石金川
.
中国专利
:CN113223981A
,2021-08-06
[10]
半导体元器件及制造方法
[P].
闻叶廷
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闻叶廷
;
H·希卫斯
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H·希卫斯
.
中国专利
:CN101383342A
,2009-03-11
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