直写式光刻机曝光对准装置及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710132088.6

申请日：

2017-03-07

公开(公告)号：

CN106773566A

公开(公告)日：

2017-05-31

发明(设计)人：

李显杰

申请人：

申请人地址：

214135 江苏省无锡市新吴区太湖国际科技园菱湖大道200号中国传感网国际创新园F3

IPC主分类号：

G03F900

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104

代理人：

殷红梅

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-15	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 9/00 申请公布日:20170531
2017-05-31	公开	公开
2017-06-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101729198528 IPC(主分类):G03F 9/00 专利申请号:2017101320886 申请日:20170307

共 50 条

[1]

直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机 [P].

王超 ;

梅文辉 ;

赵美云 ;

邵德洋 .

中国专利 :CN119556532A ,2025-03-04

[2]

光刻机对准方法、装置及光刻机 [P].

罗先刚 ;

李成建 ;

刘明刚 .

中国专利 :CN119356050A ,2025-01-24

[3]

直写式曝光系统及光刻机 [P].

陈超 ;

陈锡媛 ;

蔡自立 ;

零萍 .

中国专利 :CN117348351A ,2024-01-05

[4]

控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03

[5]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

邢奕飞 ;

高安 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690594B ,2025-05-09

[6]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

高安 ;

邢奕飞 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690596A ,2022-07-01

[7]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

邢奕飞 ;

高安 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690594A ,2022-07-01

[8]

对准装置、光刻机及对准方法 [P].

高安 ;

邢奕飞 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690596B ,2025-05-20

[9]

一种直写式光刻机的对准装置 [P].

马运军 ;

李波 ;

李志 ;

汪旭 ;

张雷 .

中国专利 :CN216351772U ,2022-04-19

[10]

控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN113934115A ,2022-01-14

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