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半导体器件的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200510064979.X
申请日
:
2005-04-13
公开(公告)号
:
CN1684242A
公开(公告)日
:
2005-10-19
发明(设计)人
:
大桥拓夫
诹访刚
久保田大志
申请人
:
申请人地址
:
日本东京
IPC主分类号
:
H01L2176
IPC分类号
:
H01L21316
H01L21324
代理机构
:
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人
:
钟强;谷惠敏
法律状态
:
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2009-02-25
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回
2005-10-19
公开
公开
2005-12-14
实质审查的生效
实质审查的生效
共 50 条
[1]
制造半导体器件的方法
[P].
权五成
论文数:
0
引用数:
0
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0
权五成
;
金辰泰
论文数:
0
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金辰泰
.
中国专利
:CN1144397A
,1997-03-05
[2]
半导体器件的制造方法及半导体器件
[P].
舛冈富士雄
论文数:
0
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0
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舛冈富士雄
;
中村广记
论文数:
0
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0
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0
中村广记
.
中国专利
:CN103262234A
,2013-08-21
[3]
半导体器件以及半导体器件的制造方法
[P].
袋武人
论文数:
0
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袋武人
;
冲原将生
论文数:
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冲原将生
.
中国专利
:CN1945843A
,2007-04-11
[4]
半导体器件和半导体器件的制造方法
[P].
甲斐徹哉
论文数:
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甲斐徹哉
;
笠井良夫
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笠井良夫
;
角田弘昭
论文数:
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角田弘昭
;
萩原裕之
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萩原裕之
;
小林英行
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小林英行
.
中国专利
:CN1330393A
,2002-01-09
[5]
半导体器件和半导体器件的制造方法
[P].
马诺耶·库马尔
论文数:
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0
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机构:
安世有限公司
安世有限公司
马诺耶·库马尔
;
基里安·翁
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机构:
安世有限公司
安世有限公司
基里安·翁
.
:CN117650176A
,2024-03-05
[6]
半导体器件的制造方法
[P].
林重德
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林重德
;
山本和彦
论文数:
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山本和彦
.
中国专利
:CN1841675A
,2006-10-04
[7]
制造半导体器件的方法
[P].
朴成炯
论文数:
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朴成炯
;
李凞德
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0
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李凞德
.
中国专利
:CN1691291A
,2005-11-02
[8]
半导体器件的制造方法
[P].
桥本广司
论文数:
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桥本广司
;
高田和彦
论文数:
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引用数:
0
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高田和彦
.
中国专利
:CN1518090A
,2004-08-04
[9]
半导体器件的制造方法
[P].
林重德
论文数:
0
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林重德
;
山本和彦
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0
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山本和彦
.
中国专利
:CN100401478C
,2004-08-18
[10]
制造半导体器件的方法
[P].
山上朗
论文数:
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山上朗
;
关野聪
论文数:
0
引用数:
0
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0
关野聪
.
中国专利
:CN1316568C
,2004-05-26
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