一种磁控溅射用阴极

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专利类型
实用新型
申请号
CN201120040063.1
申请日
2011-02-17
公开(公告)号
CN202148349U
公开(公告)日
2012-02-22
发明(设计)人
陈曦 陆志豪
申请人
申请人地址
200092 上海市杨浦区赤峰路63号5号楼311室
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
代理人
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共 50 条
[1]
一种磁控溅射用平面阴极 [P]. 
陈曦 ;
陆志豪 .
中国专利 :CN202307784U ,2012-07-04
[2]
一种磁控溅射镀膜用阴极 [P]. 
李震 .
中国专利 :CN204281852U ,2015-04-22
[3]
一种中频磁控溅射镀膜用阴极 [P]. 
李震 .
中国专利 :CN204281851U ,2015-04-22
[4]
磁控溅射用平面阴极及磁控溅射装置 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN223268739U ,2025-08-26
[5]
一种磁控溅射镀膜用阴极 [P]. 
李震 .
中国专利 :CN104532198A ,2015-04-22
[6]
一种磁控溅射镀膜用的平面阴极 [P]. 
郭爱云 ;
赵灿东 ;
周学卿 ;
黄定平 .
中国专利 :CN204959025U ,2016-01-13
[7]
一种磁控溅射平面阴极装置 [P]. 
谢斌 .
中国专利 :CN215163079U ,2021-12-14
[8]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
彭寿 ;
葛承全 ;
张超群 ;
井治 ;
张仰平 ;
李险峰 .
中国专利 :CN203462120U ,2014-03-05
[9]
磁控溅射平面阴极镀膜机用阴极背板及磁控溅射平面阴极镀膜机 [P]. 
李国伟 ;
王剑涛 ;
陈发伟 ;
李兆廷 .
中国专利 :CN208733217U ,2019-04-12
[10]
磁控溅射旋转阴极 [P]. 
李忠 .
中国专利 :CN213086094U ,2021-04-30