一种磁控溅射用平面阴极

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专利类型
实用新型
申请号
CN201120257996.6
申请日
2011-07-21
公开(公告)号
CN202307784U
公开(公告)日
2012-07-04
发明(设计)人
陈曦 陆志豪
申请人
申请人地址
200092 上海市杨浦区赤峰路63号1号楼310室
IPC主分类号
H01J3704
IPC分类号
H01J3734
代理机构
代理人
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共 50 条
[1]
磁控溅射用平面阴极及磁控溅射装置 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN223268739U ,2025-08-26
[2]
磁控溅射平面阴极镀膜机用阴极背板及磁控溅射平面阴极镀膜机 [P]. 
李国伟 ;
王剑涛 ;
陈发伟 ;
李兆廷 .
中国专利 :CN208733217U ,2019-04-12
[3]
一种磁控溅射平面阴极装置 [P]. 
谢斌 .
中国专利 :CN215163079U ,2021-12-14
[4]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
彭寿 ;
葛承全 ;
张超群 ;
井治 ;
张仰平 ;
李险峰 .
中国专利 :CN203462120U ,2014-03-05
[5]
一种磁控溅射镀膜用的平面阴极 [P]. 
郭爱云 ;
赵灿东 ;
周学卿 ;
黄定平 .
中国专利 :CN204959025U ,2016-01-13
[6]
一种磁控溅射平面阴极 [P]. 
王正安 .
中国专利 :CN208562507U ,2019-03-01
[7]
一种磁控溅射用阴极 [P]. 
陈曦 ;
陆志豪 .
中国专利 :CN202148349U ,2012-02-22
[8]
一种磁控溅射平面阴极装置 [P]. 
谢斌 .
中国专利 :CN113122814A ,2021-07-16
[9]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
陈长琦 ;
郭江涛 ;
王君 .
中国专利 :CN201162042Y ,2008-12-10
[10]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
彭寿 ;
葛承全 ;
张超群 ;
井治 ;
张仰平 ;
李险峰 .
中国专利 :CN103602953A ,2014-02-26