一种矩形平面磁控溅射阴极

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN200820033188.X
申请日
2008-03-26
公开(公告)号
CN201162042Y
公开(公告)日
2008-12-10
发明(设计)人
陈长琦 郭江涛 王君
申请人
申请人地址
230009安徽省合肥市屯溪路193号
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
安徽省合肥新安专利代理有限责任公司
代理人
何梅生
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
陈长琦 ;
郭江涛 ;
王君 .
中国专利 :CN101250687A ,2008-08-27
[2]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
苏宜龙 ;
赵子东 .
中国专利 :CN201981253U ,2011-09-21
[3]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
彭寿 ;
葛承全 ;
张超群 ;
井治 ;
张仰平 ;
李险峰 .
中国专利 :CN203462120U ,2014-03-05
[4]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
彭寿 ;
葛承全 ;
张超群 ;
井治 ;
张仰平 ;
李险峰 .
中国专利 :CN103602953A ,2014-02-26
[5]
平面磁控溅射阴极 [P]. 
黄登聪 ;
彭立全 .
中国专利 :CN103046009A ,2013-04-17
[6]
平面磁控溅射阴极 [P]. 
黄登聪 ;
彭立全 .
中国专利 :CN103050358A ,2013-04-17
[7]
一种可调非平衡矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
郭江涛 ;
文继志 .
中国专利 :CN113073301A ,2021-07-06
[8]
一种平面磁控溅射阴极 [P]. 
朱刚毅 ;
朱刚劲 ;
朱文廓 .
中国专利 :CN108588663A ,2018-09-28
[9]
一种磁控溅射平面阴极 [P]. 
王正安 .
中国专利 :CN208562507U ,2019-03-01
[10]
磁控溅射用平面阴极及磁控溅射装置 [P]. 
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN223268739U ,2025-08-26