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一种可调非平衡矩形平面磁控溅射阴极
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110319424.4
申请日
:
2021-03-25
公开(公告)号
:
CN113073301A
公开(公告)日
:
2021-07-06
发明(设计)人
:
郭江涛
文继志
申请人
:
申请人地址
:
314006 浙江省嘉兴市南湖区大桥镇顺泽路1515号2号楼101室
IPC主分类号
:
C23C1435
IPC分类号
:
代理机构
:
嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253
代理人
:
廖银洪
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-07-06
公开
公开
2021-07-23
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20210325
共 50 条
[1]
一种矩形平面磁控溅射阴极
[P].
陈长琦
论文数:
0
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0
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0
陈长琦
;
郭江涛
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郭江涛
;
王君
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王君
.
中国专利
:CN101250687A
,2008-08-27
[2]
一种矩形平面磁控溅射阴极
[P].
陈长琦
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陈长琦
;
郭江涛
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郭江涛
;
王君
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王君
.
中国专利
:CN201162042Y
,2008-12-10
[3]
一种矩形平面磁控溅射阴极
[P].
彭寿
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彭寿
;
葛承全
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葛承全
;
张超群
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张超群
;
井治
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井治
;
张仰平
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张仰平
;
李险峰
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李险峰
.
中国专利
:CN103602953A
,2014-02-26
[4]
一种矩形平面磁控溅射阴极
[P].
苏宜龙
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苏宜龙
;
赵子东
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赵子东
.
中国专利
:CN201981253U
,2011-09-21
[5]
一种矩形平面磁控溅射阴极
[P].
彭寿
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彭寿
;
葛承全
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葛承全
;
张超群
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张超群
;
井治
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井治
;
张仰平
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张仰平
;
李险峰
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李险峰
.
中国专利
:CN203462120U
,2014-03-05
[6]
一种平面磁控溅射阴极
[P].
朱刚毅
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朱刚毅
;
朱刚劲
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朱刚劲
;
朱文廓
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朱文廓
.
中国专利
:CN108588663A
,2018-09-28
[7]
非平衡平面磁控溅射阴极及其镀膜装置
[P].
范毓殿
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范毓殿
;
王百海
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王百海
;
黄炽雄
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黄炽雄
;
乔治·波纳瑟斯
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乔治·波纳瑟斯
.
中国专利
:CN1109127C
,1999-04-28
[8]
平面磁控溅射阴极
[P].
黄登聪
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黄登聪
;
彭立全
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彭立全
.
中国专利
:CN103046009A
,2013-04-17
[9]
平面磁控溅射阴极
[P].
黄登聪
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黄登聪
;
彭立全
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彭立全
.
中国专利
:CN103050358A
,2013-04-17
[10]
双面溅射的平面磁控溅射阴极
[P].
徐树深
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徐树深
;
王瑛
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王瑛
;
牛亚平
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牛亚平
.
中国专利
:CN1439740A
,2003-09-03
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