一种可调非平衡矩形平面磁控溅射阴极

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110319424.4
申请日
2021-03-25
公开(公告)号
CN113073301A
公开(公告)日
2021-07-06
发明(设计)人
郭江涛 文继志
申请人
申请人地址
314006 浙江省嘉兴市南湖区大桥镇顺泽路1515号2号楼101室
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253
代理人
廖银洪
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
陈长琦 ;
郭江涛 ;
王君 .
中国专利 :CN101250687A ,2008-08-27
[2]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
陈长琦 ;
郭江涛 ;
王君 .
中国专利 :CN201162042Y ,2008-12-10
[3]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
彭寿 ;
葛承全 ;
张超群 ;
井治 ;
张仰平 ;
李险峰 .
中国专利 :CN103602953A ,2014-02-26
[4]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
苏宜龙 ;
赵子东 .
中国专利 :CN201981253U ,2011-09-21
[5]
一种矩形平面磁控溅射阴极 [P]. 
彭寿 ;
葛承全 ;
张超群 ;
井治 ;
张仰平 ;
李险峰 .
中国专利 :CN203462120U ,2014-03-05
[6]
一种平面磁控溅射阴极 [P]. 
朱刚毅 ;
朱刚劲 ;
朱文廓 .
中国专利 :CN108588663A ,2018-09-28
[7]
非平衡平面磁控溅射阴极及其镀膜装置 [P]. 
范毓殿 ;
王百海 ;
黄炽雄 ;
乔治·波纳瑟斯 .
中国专利 :CN1109127C ,1999-04-28
[8]
平面磁控溅射阴极 [P]. 
黄登聪 ;
彭立全 .
中国专利 :CN103046009A ,2013-04-17
[9]
平面磁控溅射阴极 [P]. 
黄登聪 ;
彭立全 .
中国专利 :CN103050358A ,2013-04-17
[10]
双面溅射的平面磁控溅射阴极 [P]. 
徐树深 ;
王瑛 ;
牛亚平 .
中国专利 :CN1439740A ,2003-09-03