一种平面磁控溅射阴极

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810647610.9

申请日：

2018-06-22

公开(公告)号：

CN108588663A

公开(公告)日：

2018-09-28

发明(设计)人：

朱刚毅朱刚劲朱文廓

申请人：

申请人地址：

526060 广东省肇庆市端州一路宾日工业村

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

广州市华学知识产权代理有限公司 44245

代理人：

官国鹏

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-03-26	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 14/35 申请公布日:20180928
2018-09-28	公开	公开
2018-10-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20180622

共 50 条

[1]

平面磁控溅射阴极 [P].

黄登聪 ;

彭立全 .

中国专利 :CN103046009A ,2013-04-17

[2]

平面磁控溅射阴极 [P].

黄登聪 ;

彭立全 .

中国专利 :CN103050358A ,2013-04-17

[3]

双面溅射的平面磁控溅射阴极 [P].

徐树深 ;

王瑛 ;

牛亚平 .

中国专利 :CN1439740A ,2003-09-03

[4]

一种矩形平面磁控溅射阴极 [P].

陈长琦 ;

郭江涛 ;

王君 .

中国专利 :CN101250687A ,2008-08-27

[5]

一种矩形平面磁控溅射阴极 [P].

陈长琦 ;

郭江涛 ;

王君 .

中国专利 :CN201162042Y ,2008-12-10

[6]

一种矩形平面磁控溅射阴极 [P].

彭寿 ;

葛承全 ;

张超群 ;

井治 ;

张仰平 ;

李险峰 .

中国专利 :CN103602953A ,2014-02-26

[7]

一种矩形平面磁控溅射阴极 [P].

苏宜龙 ;

赵子东 .

中国专利 :CN201981253U ,2011-09-21

[8]

一种矩形平面磁控溅射阴极 [P].

彭寿 ;

葛承全 ;

张超群 ;

井治 ;

张仰平 ;

李险峰 .

中国专利 :CN203462120U ,2014-03-05

[9]

一种高功率平面磁控溅射阴极 [P].

陈理 ;

李国强 .

中国专利 :CN201301339Y ,2009-09-02

[10]

一种高功率平面磁控溅射阴极 [P].

陈理 ;

李国强 .

中国专利 :CN101418432B ,2009-04-29

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