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一种硅片清洗工艺
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010033475.6
申请日
:
2020-01-13
公开(公告)号
:
CN111199874A
公开(公告)日
:
2020-05-26
发明(设计)人
:
袁祥龙
刘园
武卫
孙晨光
刘建伟
由佰玲
常雪岩
谢艳
杨春雪
刘秒
裴坤羽
祝斌
刘姣龙
王彦君
吕莹
徐荣清
申请人
:
申请人地址
:
300384 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号
IPC主分类号
:
H01L2102
IPC分类号
:
B08B304
B08B308
代理机构
:
天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213
代理人
:
栾志超
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-05-26
公开
公开
2020-06-19
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20200113
共 50 条
[1]
硅片清洗工艺
[P].
金文明
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金文明
;
贺贤汉
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贺贤汉
;
张恩泽
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张恩泽
;
吴佳明
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吴佳明
.
中国专利
:CN103762155A
,2014-04-30
[2]
一种硅片清洗工艺
[P].
崔敏娟
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崔敏娟
.
中国专利
:CN107552481A
,2018-01-09
[3]
硅片清洗工艺
[P].
冯雪
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机构:
浙江清华柔性电子技术研究院
浙江清华柔性电子技术研究院
冯雪
;
王庆波
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机构:
浙江清华柔性电子技术研究院
浙江清华柔性电子技术研究院
王庆波
.
中国专利
:CN121034945A
,2025-11-28
[4]
一种硅片清洗设备及清洗工艺
[P].
古元甲
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古元甲
;
刘晓伟
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刘晓伟
;
刘涛
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刘涛
;
刘琦
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刘琦
;
李伟
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李伟
;
刘沛然
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刘沛然
;
孙昊
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孙昊
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孙毅
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孙毅
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石海涛
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石海涛
;
秦焱泽
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秦焱泽
;
杨旭洲
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杨旭洲
;
田志民
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田志民
;
李方乐
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李方乐
.
中国专利
:CN107639070A
,2018-01-30
[5]
一种硅片清洗装置及清洗工艺
[P].
刘园
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刘园
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袁祥龙
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袁祥龙
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赵洋
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赵洋
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武卫
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武卫
;
刘建伟
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刘建伟
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祝斌
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祝斌
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刘姣龙
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刘姣龙
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裴坤羽
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裴坤羽
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孙晨光
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孙晨光
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王彦君
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王彦君
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张宏杰
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张宏杰
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由佰玲
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由佰玲
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常雪岩
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常雪岩
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杨春雪
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杨春雪
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谢艳
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谢艳
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刘秒
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刘秒
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吕莹
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吕莹
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徐荣清
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徐荣清
.
中国专利
:CN115502136A
,2022-12-23
[6]
一种降低硅片表面金属的清洗工艺
[P].
张雪
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张雪
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张超仁
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张超仁
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曹锦伟
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曹锦伟
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王彦君
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王彦君
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孙晨光
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孙晨光
.
中国专利
:CN114242563A
,2022-03-25
[7]
一种大直径硅片片盒清洗工艺
[P].
张宏杰
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张宏杰
.
中国专利
:CN114643218A
,2022-06-21
[8]
硅片的清洗工艺
[P].
唐国琴
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唐国琴
.
中国专利
:CN102569036A
,2012-07-11
[9]
一种大尺寸硅片碱腐清洗装置及清洗工艺
[P].
刘姣龙
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刘姣龙
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武卫
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武卫
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孙晨光
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孙晨光
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刘建伟
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刘建伟
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由佰玲
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由佰玲
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刘园
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刘园
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谢艳
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谢艳
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杨春雪
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杨春雪
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刘秒
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刘秒
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常雪岩
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常雪岩
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裴坤羽
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裴坤羽
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祝斌
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祝斌
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王彦君
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王彦君
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吕莹
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吕莹
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徐荣清
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徐荣清
.
中国专利
:CN110931348A
,2020-03-27
[10]
一种硅片扩散后清洗工艺
[P].
黄志焕
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黄志焕
;
李亚哲
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李亚哲
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徐长坡
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徐长坡
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陈澄
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陈澄
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梁效峰
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梁效峰
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杨玉聪
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杨玉聪
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王晓捧
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王晓捧
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中国专利
:CN109755099B
,2019-05-14
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