用于汽相淀积系统的衬底托架

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510092824.7

申请日：

2005-08-22

公开(公告)号：

CN1737191A

公开(公告)日：

2006-02-22

发明(设计)人：

理查德·I.·塞登

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C1450

IPC分类号：

C23C1600

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

郑小粤

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-12-14	授权	授权
2016-05-18	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101732606109 IPC(主分类):C23C 14/50 专利号:ZL2005100928247 变更事项:专利权人变更前:JDS尤尼弗思公司变更后:VIAVI 科技有限公司变更事项:地址变更前:美国加利福尼亚州变更后:美国加利福尼亚州
2007-10-17	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-02-22	公开	公开
2018-08-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/50 申请日:20050822 授权公告日:20111214 终止日期:20170822

共 50 条

[1]

用于汽相淀积系统的磁锁闩 [P].

理查德·I.·塞登 ;

马库斯·K.·帝尔什 ;

杰里米·贺氏 .

中国专利 :CN1737192B ,2006-02-22

[2]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

北原宏一 ;

高松勇吉 ;

森勇次 .

中国专利 :CN1316546A ,2001-10-10

[3]

化学汽相淀积设备和化学汽相淀积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

王宏兴 ;

小宫由直 ;

吴羽羚儿 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1392595A ,2003-01-22

[4]

汽相淀积源和汽相淀积装置 [P].

吉川俊明 ;

真下精二 ;

福田直人 .

中国专利 :CN101041891B ,2007-09-26

[5]

用于汽相淀积源的加热系统 [P].

B·迪赛尔-维达莱 ;

C·格拉尔 .

中国专利 :CN102762766B ,2012-10-31

[6]

化学汽相淀积装置 [P].

高山徹 ;

犬岛 ;

尾高政一 ;

林茂则 ;

広濑直樹 .

中国专利 :CN87106283A ,1988-03-23

[7]

物理汽相淀积靶结构以及处理物理汽相淀积靶的方法 [P].

J·比勒 .

中国专利 :CN1582343A ,2005-02-16

[8]

垂直化学汽相淀积装置 [P].

陈聪茂 .

中国专利 :CN201501927U ,2010-06-09

[9]

设计热物理汽相淀积系统的方法 [P].

J·M·格雷斯 ;

D·R·弗雷曼 ;

N·雷登 ;

J·H·克卢格 ;

S·A·范斯利克 .

中国专利 :CN1568107A ,2005-01-19

[10]

在半导体衬底上化学汽相淀积钨的方法 [P].

汉斯·维尔卡门 ;

约里斯·巴伊勒 .

中国专利 :CN1366334A ,2002-08-28

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