制造半导体器件的方法

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专利类型
发明
申请号
CN200610173218.2
申请日
2006-12-30
公开(公告)号
CN101097887A
公开(公告)日
2008-01-02
发明(设计)人
赵挥元 洪承希 金奭中 郑哲谟
申请人
申请人地址
韩国京畿道利川市
IPC主分类号
H01L21768
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人
杨生平;杨红梅
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
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