用于TiN硬掩模去除和蚀刻残留物清洁的组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910682235.6

申请日：

2019-07-26

公开(公告)号：

CN110777381B

公开(公告)日：

2020-02-11

发明(设计)人：

陈昭翔李翊嘉刘文达张仲逸

申请人：

申请人地址：

美国亚利桑那州

IPC主分类号：

C23F144

IPC分类号：

C23F102

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

吴亦华;徐志明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-06	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/44 申请日:20190726
2020-02-11	公开	公开
2022-10-04	授权	授权

共 50 条

[1]

TiN硬掩模和蚀刻残留物去除 [P].

刘文达 ;

李翊嘉 ;

W·J·小卡斯特尔 ;

陈天牛 ;

R·K·阿加瓦尔 ;

M·B·劳 .

中国专利 :CN106226991A ,2016-12-14

[2]

TiN硬掩模和蚀刻残留物去除 [P].

刘文达 ;

李翊嘉 ;

W·J·小卡斯特尔 ;

陈天牛 ;

R·K·阿加瓦尔 ;

M·B·劳 .

中国专利 :CN108121149A ,2018-06-05

[3]

用于去除蚀刻后残留物的清洁组合物 [P].

M·佩恩 ;

E·库珀 ;

金万涞 ;

E·洪 ;

S·金 .

中国专利 :CN110023477A ,2019-07-16

[4]

用于除去氮化钛硬掩模和蚀刻残留物的组合物 [P].

W·J·小卡斯特尔 ;

稻冈诚二 ;

M·B·劳 ;

B·F·罗斯 ;

李翊嘉 ;

刘文达 ;

陈天牛 .

中国专利 :CN104730870B ,2015-06-24

[5]

一种去除蚀刻残留物的化学组合物 [P].

张文贝 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

郭辛煊 .

中国专利 :CN120272922A ,2025-07-08

[6]

一种兼具WC去除和蚀刻残留物清洁的组合物 [P].

叶瑞 ;

谢建 ;

贺兆波 ;

吴政 ;

王亮 ;

孟牧麟 ;

刘春丽 ;

彭秋桂 ;

汪凡杰 ;

李宇 .

中国专利 :CN118185631A ,2024-06-14

[7]

一种用于蚀刻后残留物去除的组合物 [P].

夏德勇 ;

刘兵 ;

刘玉凤 .

中国专利 :CN120173682A ,2025-06-20

[8]

氮化钛硬掩膜和蚀刻残留物的去除 [P].

W·J·小卡斯特尔 ;

稻冈诚二 ;

刘文达 ;

陈天牛 .

中国专利 :CN105295924A ,2016-02-03

[9]

一种去除蚀刻残留物的组合物 [P].

蔡贝克 ;

刘兵 ;

彭洪修 ;

李志豪 ;

温启蒙 .

中国专利 :CN120230612A ,2025-07-01

[10]

一种用于选择性移除氮化钛硬掩模和/或蚀刻残留物的组合物 [P].

曹立志 ;

王新龙 ;

支肖琼 ;

杨玉川 ;

周友 .

中国专利 :CN110095952A ,2019-08-06

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