一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310506605.3

申请日：

2013-10-22

公开(公告)号：

CN103540900B

公开(公告)日：

2014-01-29

发明(设计)人：

赵彦辉肖金泉于宝海华伟刚宫骏孙超

申请人：

申请人地址：

110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234

代理人：

张志伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-03-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101576172128 IPC(主分类):C23C 14/32 专利申请号:2013105066053 申请日:20131022
2016-01-13	授权	授权
2014-01-29	公开	公开

共 50 条

[1]

一种磁控电弧离子镀复合沉积装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 ;

华伟刚 ;

宫骏 ;

孙超 .

中国专利 :CN203498466U ,2014-03-26

[2]

一种磁场增强电弧离子镀沉积工艺 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杜昊 ;

赵彦辉 ;

闻立时 .

中国专利 :CN101363114B ,2009-02-11

[3]

一种改善电弧离子镀沉积工艺的动态磁控弧源装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杜昊 ;

赵彦辉 ;

杨英 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201158702Y ,2008-12-03

[4]

耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杨英 ;

赵彦辉 ;

杜昊 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201158701Y ,2008-12-03

[5]

一种磁控电弧离子镀复合沉积设备 [P].

郑立冬 ;

夏晓谦 ;

曾庆熙 ;

张燕娇 ;

盛永利 .

中国专利 :CN220335290U ,2024-01-12

[6]

提高电弧离子镀沉积薄膜质量的装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

赵彦辉 ;

杜昊 ;

闻立时 .

中国专利 :CN100591797C ,2009-02-04

[7]

旋转磁控电弧离子镀弧源 [P].

闻立时 ;

郎文昌 ;

肖金泉 ;

黄荣芳 ;

孙超 ;

宫骏 .

中国专利 :CN101363115B ,2009-02-11

[8]

一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 .

中国专利 :CN103643213A ,2014-03-19

[9]

多级磁场电弧离子镀和射频磁控溅射复合沉积方法 [P].

魏永强 ;

宗晓亚 ;

蒋志强 ;

吴忠振 ;

刘源 .

中国专利 :CN104975263A ,2015-10-14

[10]

一种电弧离子镀装置及沉积硬质涂层工艺 [P].

刘伟 ;

马槽伟 .

中国专利 :CN109136865A ,2019-01-04

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