一种电弧离子镀装置及沉积硬质涂层工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811250036.X

申请日：

2018-10-25

公开(公告)号：

CN109136865A

公开(公告)日：

2019-01-04

发明(设计)人：

刘伟马槽伟

申请人：

申请人地址：

116600 辽宁省大连市经济技术开发区铁山西路3-1号-A、B

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

C23C1448 C23C1402

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/32 申请日:20181025
2019-01-04	公开	公开
2020-10-27	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):C23C 14/32 登记生效日:20200930 变更事项:申请人变更前权利人:大连维钛克科技股份有限公司变更后权利人:大连威钛克纳米科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:116600 辽宁省大连市经济技术开发区铁山西路3-1号-A、B 变更后权利人:116600 辽宁省大连市经济技术开发区东北七街13号

共 50 条

[1]

一种电弧离子镀装置 [P].

刘伟 ;

马槽伟 .

中国专利 :CN209307475U ,2019-08-27

[2]

低温电弧离子镀涂层 [P].

S.克拉斯尼策尔 ;

D.库拉波夫 ;

M.莱希塔勒 .

中国专利 :CN104114740A ,2014-10-22

[3]

一种磁场增强电弧离子镀沉积工艺 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杜昊 ;

赵彦辉 ;

闻立时 .

中国专利 :CN101363114B ,2009-02-11

[4]

耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杨英 ;

赵彦辉 ;

杜昊 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201158701Y ,2008-12-03

[5]

一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 [P].

华伟刚 ;

曲士广 .

中国专利 :CN207047312U ,2018-02-27

[6]

一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 [P].

华伟刚 ;

曲士广 .

中国专利 :CN107227445B ,2017-10-03

[7]

一种磁控电弧离子镀复合沉积工艺和沉积装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 ;

华伟刚 ;

宫骏 ;

孙超 .

中国专利 :CN103540900B ,2014-01-29

[8]

一种快速硬质陶瓷涂层离子镀装置 [P].

杨兵 ;

丁辉 ;

付德君 .

中国专利 :CN101403101A ,2009-04-08

[9]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN202072760U ,2011-12-14

[10]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN102758186B ,2012-10-31

← 1 2 3 4 5 →