一种电弧离子镀设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120127450.9

申请日：

2011-04-26

公开(公告)号：

CN202072760U

公开(公告)日：

2011-12-14

发明(设计)人：

杜昊赵彦辉肖金泉宋贵宏熊天英

申请人：

申请人地址：

110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002

代理人：

许宗富

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-12-14	授权	授权
2015-06-17	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101613405124 IPC(主分类):C23C 14/32 专利号:ZL2011201274509 申请日:20110426 授权公告日:20111214 终止日期:20140426

共 50 条

[1]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN102758186B ,2012-10-31

[2]

电弧离子镀设备 [P].

玉垣浩 ;

藤井博文 ;

冲本忠雄 ;

宫本僚次 .

中国专利 :CN1952205B ,2007-04-25

[3]

耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杨英 ;

赵彦辉 ;

杜昊 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201158701Y ,2008-12-03

[4]

一种电弧离子镀装置 [P].

刘伟 ;

马槽伟 .

中国专利 :CN209307475U ,2019-08-27

[5]

低温电弧离子镀涂层 [P].

S.克拉斯尼策尔 ;

D.库拉波夫 ;

M.莱希塔勒 .

中国专利 :CN104114740A ,2014-10-22

[6]

一种磁场增强电弧离子镀沉积工艺 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杜昊 ;

赵彦辉 ;

闻立时 .

中国专利 :CN101363114B ,2009-02-11

[7]

一种磁控电弧离子镀复合沉积装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 ;

华伟刚 ;

宫骏 ;

孙超 .

中国专利 :CN203498466U ,2014-03-26

[8]

PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

赵彦辉 ;

杨英 ;

华伟刚 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201162038Y ,2008-12-10

[9]

一种齿科用真空电弧离子镀设备 [P].

李超众 ;

高广睿 ;

王宝云 ;

屈静 ;

呼丹 ;

刘晶 .

中国专利 :CN207877848U ,2018-09-18

[10]

用于涡轮叶片电弧离子镀的转动夹具及电弧离子镀设备 [P].

石倩 ;

林松盛 ;

杜伟 ;

代明江 ;

韦春贝 ;

李洪 ;

苏一凡 ;

郭朝乾 .

中国专利 :CN208279680U ,2018-12-25

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