电弧离子镀设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610131894.3

申请日：

2006-10-17

公开(公告)号：

CN1952205B

公开(公告)日：

2007-04-25

发明(设计)人：

玉垣浩藤井博文冲本忠雄宫本僚次

申请人：

申请人地址：

日本兵库县神户市

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

温大鹏

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-04-25	公开	公开
2010-06-02	授权	授权
2007-06-13	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

低温电弧离子镀涂层 [P].

S.克拉斯尼策尔 ;

D.库拉波夫 ;

M.莱希塔勒 .

中国专利 :CN104114740A ,2014-10-22

[2]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN202072760U ,2011-12-14

[3]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN102758186B ,2012-10-31

[4]

电弧型离子镀装置 [P].

冈崎尚登 ;

大谷聪 .

中国专利 :CN1118586C ,2003-08-20

[5]

电弧离子镀装置 [P].

仙北屋和明 ;

田中裕介 .

中国专利 :CN102650041A ,2012-08-29

[6]

用于涡轮叶片电弧离子镀的转动夹具及电弧离子镀设备 [P].

石倩 ;

林松盛 ;

杜伟 ;

代明江 ;

韦春贝 ;

李洪 ;

苏一凡 ;

郭朝乾 .

中国专利 :CN208279680U ,2018-12-25

[7]

中央电弧离子镀蒸镀装置 [P].

鞠亨元 .

韩国专利 :CN118127466A ,2024-06-04

[8]

一种电弧离子镀装置 [P].

刘伟 ;

马槽伟 .

中国专利 :CN209307475U ,2019-08-27

[9]

一种齿科用真空电弧离子镀设备 [P].

李超众 ;

高广睿 ;

王宝云 ;

屈静 ;

呼丹 ;

刘晶 .

中国专利 :CN207877848U ,2018-09-18

[10]

耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杨英 ;

赵彦辉 ;

杜昊 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201158701Y ,2008-12-03

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