一种电弧离子镀设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110105549.3

申请日：

2011-04-26

公开(公告)号：

CN102758186B

公开(公告)日：

2012-10-31

发明(设计)人：

杜昊赵彦辉肖金泉宋贵宏熊天英

申请人：

申请人地址：

110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1448

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002

代理人：

许宗富

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-12-26	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101370319209 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2011101055493 申请日:20110426
2021-04-09	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20110426 授权公告日:20140709 终止日期:20200426
2014-07-09	授权	授权
2012-10-31	公开	公开

共 50 条

[1]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN202072760U ,2011-12-14

[2]

电弧离子镀设备 [P].

玉垣浩 ;

藤井博文 ;

冲本忠雄 ;

宫本僚次 .

中国专利 :CN1952205B ,2007-04-25

[3]

一种电弧离子镀装置 [P].

刘伟 ;

马槽伟 .

中国专利 :CN209307475U ,2019-08-27

[4]

耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杨英 ;

赵彦辉 ;

杜昊 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201158701Y ,2008-12-03

[5]

低温电弧离子镀涂层 [P].

S.克拉斯尼策尔 ;

D.库拉波夫 ;

M.莱希塔勒 .

中国专利 :CN104114740A ,2014-10-22

[6]

一种磁场增强电弧离子镀沉积工艺 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杜昊 ;

赵彦辉 ;

闻立时 .

中国专利 :CN101363114B ,2009-02-11

[7]

一种磁控电弧离子镀复合沉积装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 ;

华伟刚 ;

宫骏 ;

孙超 .

中国专利 :CN203498466U ,2014-03-26

[8]

电弧离子镀装置 [P].

仙北屋和明 ;

田中裕介 .

中国专利 :CN102650041A ,2012-08-29

[9]

一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 .

中国专利 :CN103643213A ,2014-03-19

[10]

PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

赵彦辉 ;

杨英 ;

华伟刚 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201162038Y ,2008-12-10

← 1 2 3 4 5 →