PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200820011753.2

申请日：

2008-03-26

公开(公告)号：

CN201162038Y

公开(公告)日：

2008-12-10

发明(设计)人：

肖金泉郎文昌孙超宫骏赵彦辉杨英华伟刚闻立时

申请人：

申请人地址：

110016辽宁省沈阳市沈河区文化路72号

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司

代理人：

张志伟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-12-10	授权	授权
2014-05-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101582287571 IPC(主分类):C23C 14/32 专利号:ZL2008200117532 申请日:20080326 授权公告日:20081210 终止日期:20130326

共 50 条

[1]

多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

赵彦辉 ;

闻立时 .

中国专利 :CN101363116B ,2009-02-11

[2]

一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 .

中国专利 :CN203569181U ,2014-04-30

[3]

一种旋转横向磁场耦合轴向磁场辅助电弧离子镀装置 [P].

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

于宝海 .

中国专利 :CN103643213A ,2014-03-19

[4]

耦合磁场辅助电弧离子镀沉积装置 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

杨英 ;

赵彦辉 ;

杜昊 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201158701Y ,2008-12-03

[5]

多模式交变耦合磁场辅助电弧离子镀沉积弧源设备 [P].

郎文昌 ;

王向红 ;

李明霞 .

中国专利 :CN102953035A ,2013-03-06

[6]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN202072760U ,2011-12-14

[7]

电弧离子镀设备 [P].

玉垣浩 ;

藤井博文 ;

冲本忠雄 ;

宫本僚次 .

中国专利 :CN1952205B ,2007-04-25

[8]

旋转磁控电弧离子镀弧源 [P].

闻立时 ;

郎文昌 ;

肖金泉 ;

黄荣芳 ;

孙超 ;

宫骏 .

中国专利 :CN101363115B ,2009-02-11

[9]

可调速调幅的旋转磁场控制的电弧离子镀弧源 [P].

肖金泉 ;

郎文昌 ;

孙超 ;

宫骏 ;

赵彦辉 ;

华伟刚 ;

闻立时 .

中国专利 :CN201162037Y ,2008-12-10

[10]

一种电弧离子镀设备 [P].

杜昊 ;

赵彦辉 ;

肖金泉 ;

宋贵宏 ;

熊天英 .

中国专利 :CN102758186B ,2012-10-31

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