蚀刻液和使用其的蚀刻方法和使用该蚀刻方法得到的基板

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610619512.5

申请日：

2016-07-29

公开(公告)号：

CN106400017B

公开(公告)日：

2017-02-15

发明(设计)人：

山田洋三本望圭纮后藤敏之

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23F118

IPC分类号：

C23F126

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-15	公开	公开
2019-07-09	授权	授权
2018-05-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/18 申请日:20160729

共 50 条

[1]

蚀刻液、该蚀刻液的制造方法和使用该蚀刻液的蚀刻方法 [P].

河野良 ;

加藤胜 .

中国专利 :CN103132078A ,2013-06-05

[2]

蚀刻液、其补给液、使用其的蚀刻方法和布线基板的制法 [P].

栗山雅代 ;

大串亮 ;

秋山大作 ;

漆畑薰 .

中国专利 :CN100513644C ,2005-05-11

[3]

钛和/或钛合金的蚀刻液、使用该蚀刻液的钛和/或钛合金的蚀刻方法、以及使用该蚀刻液的基板的制造方法 [P].

内藤幸英 ;

松永裕嗣 ;

玉井聪 .

中国专利 :CN115428129A ,2022-12-02

[4]

蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法 [P].

廖本男 ;

廖伯轩 ;

张善钧 ;

李盈壕 ;

吕志鹏 .

中国专利 :CN105887089B ,2016-08-24

[5]

蚀刻液及使用其的蚀刻方法 [P].

中田卓人 ;

中川义清 .

中国专利 :CN103649271A ,2014-03-19

[6]

蚀刻液和蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN113529085A ,2021-10-22

[7]

蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统 [P].

伊豆田信彦 ;

村田贡 .

中国专利 :CN100336182C ,2004-05-12

[8]

蚀刻液和使用了该蚀刻液的硅系基板的制造方法 [P].

大内直子 ;

柿泽政彦 ;

鹤本浩之 ;

渡边照巳 ;

河原进士 .

中国专利 :CN104303317A ,2015-01-21

[9]

蚀刻液组合物和蚀刻方法 [P].

石崎隼郎 ;

大宫大辅 .

中国专利 :CN104233299B ,2014-12-24

[10]

蚀刻液组成物及使用该蚀刻液组成物的蚀刻方法 [P].

吕志鹏 ;

陈韵慈 ;

廖本男 ;

李懿 .

中国专利 :CN108998032B ,2018-12-14

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