用于银薄层的蚀刻剂组合物，使用其形成金属图案的方法和使用其制作阵列基板的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610080742.9

申请日：

2016-02-04

公开(公告)号：

CN105887091B

公开(公告)日：

2016-08-24

发明(设计)人：

权玟廷安基熏李昔准

申请人：

申请人地址：

韩国全罗北道

IPC主分类号：

C23F130

IPC分类号：

H01L213213 H01L2712

代理机构：

北京市中伦律师事务所 11410

代理人：

石宝忠

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-05-26	授权	授权
2017-08-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101741966271 IPC(主分类):C23F 1/30 专利申请号:2016100807429 申请日:20160204
2016-08-24	公开	公开

共 50 条

[1]

蚀刻剂组合物和使用其制造金属图案和阵列基板的方法 [P].

金俸均 ;

金镇爽 ;

沈承辅 ;

崔新革 ;

沈枟亨 ;

李栋熙 ;

金奎佈 ;

申贤哲 ;

李大雨 ;

李相赫 .

中国专利 :CN110284139B ,2019-09-27

[2]

刻蚀剂组合物、金属图案的形成方法和阵列基板的制法 [P].

张尚勋 ;

沈庆辅 .

中国专利 :CN103911616A ,2014-07-09

[3]

用于蚀刻含银薄层的蚀刻剂组合物和用其制造显示装置的阵列基板的方法 [P].

沈庆辅 ;

权玟廷 ;

李昔准 .

中国专利 :CN106011861A ,2016-10-12

[4]

薄膜蚀刻剂组合物及使用其形成金属图案的方法 [P].

金镇亨 ;

郑周焕 ;

金真淑 ;

金学喆 ;

李秉洙 ;

金昌树 ;

郑正植 ;

金童基 ;

金相泰 ;

南基龙 ;

朴英哲 ;

沈庆辅 ;

林大成 ;

张晌勋 .

中国专利 :CN110552006A ,2019-12-10

[5]

用于银层的蚀刻溶液组合物、使用其制作金属图案的方法和制作显示基板的方法 [P].

安基熏 ;

沈庆辅 ;

张晌勋 .

中国专利 :CN106504987A ,2017-03-15

[6]

刻蚀剂组合物、金属图案的形成方法和阵列基板的制法 [P].

张尚勋 ;

沈庆辅 ;

李昔准 .

中国专利 :CN103898509B ,2014-07-02

[7]

用于银层的蚀刻剂组合物和形成金属图案的方法及用其制造显示基板的方法 [P].

李承洙 ;

沈庆辅 ;

安基熏 .

中国专利 :CN106702384B ,2017-05-24

[8]

蚀刻金属层的组合物以及使用其形成金属图案的方法 [P].

金钟一 ;

李坰默 ;

宋桂燦 ;

曹三永 ;

申贤哲 ;

金南绪 ;

李骐范 .

中国专利 :CN1966772A ,2007-05-23

[9]

蚀刻剂组合物、形成金属线图案方法和制造阵列基板方法 [P].

刘仁浩 ;

鞠仁说 ;

南基龙 ;

尹暎晋 .

中国专利 :CN106148961A ,2016-11-23

[10]

蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法 [P].

朴种熙 ;

金基泰 ;

金真锡 ;

金奎布 ;

申贤哲 ;

李大雨 ;

李相赫 .

中国专利 :CN110387545B ,2019-10-29

← 1 2 3 4 5 →