电子束调整装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN86201112.4
申请日
1986-02-28
公开(公告)号
CN86201112U
公开(公告)日
1987-05-27
发明(设计)人
平井正俊 西田茂雄 岛津喜久雄
申请人
申请人地址
日本大阪市北区中之岛三丁目2番4号
IPC主分类号
H01J2946
IPC分类号
代理机构
中国专利代理有限公司
代理人
曹永来
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种电子束轨迹自动调整装置 [P]. 
程永波 ;
黄伟 ;
曹娟 .
中国专利 :CN207475960U ,2018-06-08
[2]
电子束束斑位置标定装置和电子束束斑位置调整系统 [P]. 
王珏 ;
蔡永安 ;
徐希翔 ;
王志强 .
中国专利 :CN220873521U ,2024-04-30
[3]
电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P]. 
东矢高尚 .
中国专利 :CN101546134B ,2009-09-30
[4]
电子束曝光方法及电子束曝光装置 [P]. 
伊藤英一 ;
佃雅彦 .
中国专利 :CN1708729A ,2005-12-14
[5]
电子束监视装置及电子束照射系统 [P]. 
松井信二郎 .
日本专利 :CN118160050A ,2024-06-07
[6]
电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P]. 
东矢高尚 ;
中山贵仁 .
中国专利 :CN103257529A ,2013-08-21
[7]
电子束处理方法及电子束处理装置 [P]. 
光冈一行 ;
本多稔 ;
康松润 ;
斋藤祐介 .
中国专利 :CN1534732A ,2004-10-06
[8]
电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P]. 
野村春之 ;
森田博文 .
日本专利 :CN118043943A ,2024-05-14
[9]
电子束描绘装置及电子束描绘方法 [P]. 
东矢高尚 ;
中山贵仁 .
中国专利 :CN103257528A ,2013-08-21
[10]
电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P]. 
早田康成 ;
上村理 ;
中山义则 ;
谷本明佳 ;
村木真人 .
中国专利 :CN1606129A ,2005-04-13