电子束描绘装置和电子束描绘方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200410083227.3

申请日：

2004-09-29

公开(公告)号：

CN1606129A

公开(公告)日：

2005-04-13

发明(设计)人：

早田康成上村理中山义则谷本明佳村木真人

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

H01L2130 G03F900

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

岳耀锋

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2005-04-13	公开	公开
2008-12-10	授权	授权
2017-11-10	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20040929 授权公告日:20081210 终止日期:20160929
2006-10-25	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 .

中国专利 :CN101546134B ,2009-09-30

[2]

多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法 [P].

岩崎光太 ;

山田拓 .

日本专利 :CN114078678B ,2024-09-20

[3]

多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法 [P].

岩崎光太 ;

山田拓 .

中国专利 :CN114078678A ,2022-02-22

[4]

电子束描绘装置及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257528A ,2013-08-21

[5]

电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257529A ,2013-08-21

[6]

电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P].

野村春之 ;

森田博文 .

日本专利 :CN118043943A ,2024-05-14

[7]

电子束描绘装置 [P].

小岛良明 .

中国专利 :CN1934503A ,2007-03-21

[8]

电子束描绘方法、用该电子束描绘方法制作的磁记录媒体及其制造方法 [P].

冲野刚史 ;

樱井正敏 .

中国专利 :CN101114131A ,2008-01-30

[9]

电子束描绘设备及其台架机构 [P].

北原弘昭 .

中国专利 :CN101641742B ,2010-02-03

[10]

电子束曝光方法及电子束曝光装置 [P].

伊藤英一 ;

佃雅彦 .

中国专利 :CN1708729A ,2005-12-14

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