电子束描绘装置和电子束描绘方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910129718.X

申请日：

2009-03-24

公开(公告)号：

CN101546134B

公开(公告)日：

2009-09-30

发明(设计)人：

东矢高尚

申请人：

申请人地址：

日本静冈县

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

许玉顺;胡建新

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-13	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101672061399 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL200910129718X 变更事项:专利权人变更前:纽富来科技股份有限公司变更后:纽富来科技股份有限公司变更事项:地址变更前:日本静冈县变更后:日本神奈川县
2009-09-30	公开	公开
2011-10-05	授权	授权
2009-11-25	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P].

早田康成 ;

上村理 ;

中山义则 ;

谷本明佳 ;

村木真人 .

中国专利 :CN1606129A ,2005-04-13

[2]

电子束描绘装置及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257528A ,2013-08-21

[3]

电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257529A ,2013-08-21

[4]

电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P].

野村春之 ;

森田博文 .

日本专利 :CN118043943A ,2024-05-14

[5]

多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法 [P].

岩崎光太 ;

山田拓 .

日本专利 :CN114078678B ,2024-09-20

[6]

电子束描绘装置 [P].

小岛良明 .

中国专利 :CN1934503A ,2007-03-21

[7]

多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法 [P].

岩崎光太 ;

山田拓 .

中国专利 :CN114078678A ,2022-02-22

[8]

电子束描绘方法、用该电子束描绘方法制作的磁记录媒体及其制造方法 [P].

冲野刚史 ;

樱井正敏 .

中国专利 :CN101114131A ,2008-01-30

[9]

电子束描绘设备及其台架机构 [P].

北原弘昭 .

中国专利 :CN101641742B ,2010-02-03

[10]

电子束描绘方法、电子束描绘装置以及记录有程序的非暂时性的有形的可读取的记录介质 [P].

野村春之 ;

中山田宪昭 .

日本专利 :CN119126497A ,2024-12-13

← 1 2 3 4 5 →