电子束描绘装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580009184.7

申请日：

2005-03-22

公开(公告)号：

CN1934503A

公开(公告)日：

2007-03-21

发明(设计)人：

小岛良明

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G11B7135 G11B726 H01J37147 H01J37305 H01L21027

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

黄纶伟

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-07-15	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回
2007-03-21	公开	公开
2007-05-16	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 .

中国专利 :CN101546134B ,2009-09-30

[2]

电子束描绘装置及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257528A ,2013-08-21

[3]

电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P].

早田康成 ;

上村理 ;

中山义则 ;

谷本明佳 ;

村木真人 .

中国专利 :CN1606129A ,2005-04-13

[4]

电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257529A ,2013-08-21

[5]

电子束描绘装置以及电子束描绘方法 [P].

野村春之 ;

森田博文 .

日本专利 :CN118043943A ,2024-05-14

[6]

多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法 [P].

岩崎光太 ;

山田拓 .

日本专利 :CN114078678B ,2024-09-20

[7]

多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法 [P].

岩崎光太 ;

山田拓 .

中国专利 :CN114078678A ,2022-02-22

[8]

电子束记录装置及电子束记录方法 [P].

佃雅彦 ;

林一英 ;

植野文章 .

中国专利 :CN1186768C ,2003-01-29

[9]

电子束描绘方法、用该电子束描绘方法制作的磁记录媒体及其制造方法 [P].

冲野刚史 ;

樱井正敏 .

中国专利 :CN101114131A ,2008-01-30

[10]

电子束描绘设备及其台架机构 [P].

北原弘昭 .

中国专利 :CN101641742B ,2010-02-03

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