电子束记录装置及电子束记录方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02124745.5

申请日：

2002-06-24

公开(公告)号：

CN1186768C

公开(公告)日：

2003-01-29

发明(设计)人：

佃雅彦林一英植野文章

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

G11B700

IPC分类号：

G11B726 G11B910

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

汪惠民

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-10-30	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-08-31	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101101707737 IPC(主分类):G11B 7/00 专利号:ZL021247455 申请日:20020624 授权公告日:20050126 终止日期:20100624
2003-01-29	公开	公开
2005-01-26	授权	授权
2003-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

电子束记录装置 [P].

小原隆 ;

宫崎武司 .

中国专利 :CN101443847B ,2009-05-27

[2]

电子束记录衬底 [P].

胜村昌広 .

中国专利 :CN1551169A ,2004-12-01

[3]

电子束位置变动测定方法、电子束位置变动测定装置以及电子束记录装置 [P].

小岛良明 .

中国专利 :CN1942829A ,2007-04-04

[4]

电子束记录器和电子束照射位置检测方法 [P].

佃雅彦 ;

阿部伸也 .

中国专利 :CN1542798A ,2004-11-03

[5]

电子束曝光方法及电子束曝光装置 [P].

伊藤英一 ;

佃雅彦 .

中国专利 :CN1708729A ,2005-12-14

[6]

电子束处理方法及电子束处理装置 [P].

光冈一行 ;

本多稔 ;

康松润 ;

斋藤祐介 .

中国专利 :CN1534732A ,2004-10-06

[7]

电子束描绘装置及电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 ;

中山贵仁 .

中国专利 :CN103257528A ,2013-08-21

[8]

电子束描绘装置 [P].

小岛良明 .

中国专利 :CN1934503A ,2007-03-21

[9]

电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体 [P].

安芸佑一 ;

近藤高男 ;

武田实 ;

山本真伸 ;

增原慎 ;

柏木俊行 .

中国专利 :CN1321973A ,2001-11-14

[10]

电子束监视装置及电子束照射系统 [P].

松井信二郎 .

日本专利 :CN118160050A ,2024-06-07

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