电子束记录装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780017422.8

申请日：

2007-03-12

公开(公告)号：

CN101443847B

公开(公告)日：

2009-05-27

发明(设计)人：

小原隆宫崎武司

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

G11B726

IPC分类号：

G11B910 G11B1103

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

周少杰

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-01-26	授权	授权
2018-03-30	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G11B 7/26 申请日:20070312 授权公告日:20110126 终止日期:20170312
2009-07-22	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-05-27	公开	公开

共 50 条

[1]

电子束记录装置及电子束记录方法 [P].

佃雅彦 ;

林一英 ;

植野文章 .

中国专利 :CN1186768C ,2003-01-29

[2]

电子束位置变动测定方法、电子束位置变动测定装置以及电子束记录装置 [P].

小岛良明 .

中国专利 :CN1942829A ,2007-04-04

[3]

电子束记录衬底 [P].

胜村昌広 .

中国专利 :CN1551169A ,2004-12-01

[4]

电子束记录器和电子束照射位置检测方法 [P].

佃雅彦 ;

阿部伸也 .

中国专利 :CN1542798A ,2004-11-03

[5]

多电子束检查装置 [P].

P·克瑞特 .

中国专利 :CN107112183B ,2017-08-29

[6]

超高真空电子束蒸发器、电子束镀膜装置 [P].

吴向方 .

中国专利 :CN111663105A ,2020-09-15

[7]

电子束照射装置、电子束照射方法、原版盘、压模和记录媒体 [P].

安芸佑一 ;

近藤高男 ;

武田实 ;

山本真伸 ;

增原慎 ;

柏木俊行 .

中国专利 :CN1321973A ,2001-11-14

[8]

电子束描绘装置和电子束描绘方法 [P].

东矢高尚 .

中国专利 :CN101546134B ,2009-09-30

[9]

电子束曝光方法及电子束曝光装置 [P].

伊藤英一 ;

佃雅彦 .

中国专利 :CN1708729A ,2005-12-14

[10]

电子束监视装置及电子束照射系统 [P].

松井信二郎 .

日本专利 :CN118160050A ,2024-06-07

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