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电子束描绘装置以及电子束描绘方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202280021402.2
申请日
:
2022-09-14
公开(公告)号
:
CN118043943A
公开(公告)日
:
2024-05-14
发明(设计)人
:
野村春之
森田博文
申请人
:
纽富来科技股份有限公司
申请人地址
:
日本神奈川县
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
H01J37/305
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
刘杰
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-05-31
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/027申请日:20220914
2024-05-14
公开
公开
共 50 条
[1]
电子束描绘装置以及电子束描绘方法
[P].
东矢高尚
论文数:
0
引用数:
0
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0
东矢高尚
;
中山贵仁
论文数:
0
引用数:
0
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0
中山贵仁
.
中国专利
:CN103257529A
,2013-08-21
[2]
电子束描绘装置和电子束描绘方法
[P].
东矢高尚
论文数:
0
引用数:
0
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0
东矢高尚
.
中国专利
:CN101546134B
,2009-09-30
[3]
电子束描绘装置及电子束描绘方法
[P].
东矢高尚
论文数:
0
引用数:
0
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0
东矢高尚
;
中山贵仁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中山贵仁
.
中国专利
:CN103257528A
,2013-08-21
[4]
电子束描绘装置和电子束描绘方法
[P].
早田康成
论文数:
0
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0
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0
早田康成
;
上村理
论文数:
0
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0
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上村理
;
中山义则
论文数:
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0
中山义则
;
谷本明佳
论文数:
0
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0
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0
谷本明佳
;
村木真人
论文数:
0
引用数:
0
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0
村木真人
.
中国专利
:CN1606129A
,2005-04-13
[5]
多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法
[P].
岩崎光太
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
纽富来科技股份有限公司
纽富来科技股份有限公司
岩崎光太
;
山田拓
论文数:
0
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0
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0
机构:
纽富来科技股份有限公司
纽富来科技股份有限公司
山田拓
.
日本专利
:CN114078678B
,2024-09-20
[6]
多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法
[P].
岩崎光太
论文数:
0
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岩崎光太
;
山田拓
论文数:
0
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0
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0
山田拓
.
中国专利
:CN114078678A
,2022-02-22
[7]
电子束描绘装置
[P].
小岛良明
论文数:
0
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0
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小岛良明
.
中国专利
:CN1934503A
,2007-03-21
[8]
电子束描绘方法、用该电子束描绘方法制作的磁记录媒体及其制造方法
[P].
冲野刚史
论文数:
0
引用数:
0
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冲野刚史
;
樱井正敏
论文数:
0
引用数:
0
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0
樱井正敏
.
中国专利
:CN101114131A
,2008-01-30
[9]
电子束描绘设备及其台架机构
[P].
北原弘昭
论文数:
0
引用数:
0
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0
北原弘昭
.
中国专利
:CN101641742B
,2010-02-03
[10]
电子束描绘方法、电子束描绘装置以及记录有程序的非暂时性的有形的可读取的记录介质
[P].
野村春之
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
纽富来科技股份有限公司
纽富来科技股份有限公司
野村春之
;
中山田宪昭
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
纽富来科技股份有限公司
纽富来科技股份有限公司
中山田宪昭
.
日本专利
:CN119126497A
,2024-12-13
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