光刻胶纳米压印复合模板

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420812246.4

申请日：

2014-12-18

公开(公告)号：

CN204287726U

公开(公告)日：

2015-04-22

发明(设计)人：

史晓华

申请人：

申请人地址：

215513 江苏省苏州市常熟市常熟经济技术开发区（四海路11号）科创园2号楼102

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

苏州华博知识产权代理有限公司 32232

代理人：

魏亮芳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-04-22	授权	授权
2015-11-11	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101723272765 IPC(主分类):G03F 7/00 专利号:ZL2014208122464 变更事项:专利权人变更前:苏州光舵微纳科技有限公司变更后:苏州光舵微纳科技股份有限公司变更事项:地址变更前:215513 江苏省苏州市常熟市常熟经济技术开发区(四海路11号)科创园2号楼102 变更后:215513 江苏省苏州市常熟市经济技术开发区(四海路11号)科创园2号楼102

共 50 条

[1]

纳米压印光刻胶 [P].

W·史比斯 ;

北文雄 ;

M·梅尔 ;

A·吉尔 ;

M·曼尼戈 ;

P·W·奥利维拉 ;

H·施密特 .

中国专利 :CN100517068C ,2005-08-10

[2]

光刻胶清洁设备和纳米压印设备 [P].

张军力 ;

舒成悦 ;

罗龙 .

美国专利 :CN222461892U ,2025-02-11

[3]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644B ,2025-10-28

[4]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644A ,2024-11-26

[5]

纳米压印复合模板 [P].

史晓华 ;

冀然 .

中国专利 :CN203025473U ,2013-06-26

[6]

纳米压印复合模板 [P].

罗刚 .

中国专利 :CN216449891U ,2022-05-06

[7]

一种纳米压印设备用光刻胶 [P].

王晶 .

中国专利 :CN106125502A ,2016-11-16

[8]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

万春旭 ;

张至 ;

程鑫 ;

孙大陟 .

中国专利 :CN105353587A ,2016-02-24

[9]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

李树白 ;

姚培 ;

张启蒙 ;

刘媛 ;

周敏茹 ;

周海浪 ;

杨天宝 ;

花佳淋 .

中国专利 :CN110989297A ,2020-04-10

[10]

一种纳米压印光刻胶表面改性剂 [P].

张剑平 ;

赵彬 ;

王金合 ;

任鑫 ;

施利毅 .

中国专利 :CN102604454B ,2012-07-25

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