纳米压印光刻胶及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411021684.3

申请日：

2024-07-26

公开(公告)号：

CN119024644A

公开(公告)日：

2024-11-26

发明(设计)人：

陈廷忠周兴王兆民

申请人：

珠海莫界科技有限公司

申请人地址：

519000 广东省珠海市高新区唐家湾镇湾创路58号3层301-1

IPC主分类号：

G03F7/075

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/027 G03F7/004

代理机构：

深圳市力道知识产权代理事务所(普通合伙) 44507

代理人：

李梅

法律状态：

公开

国省代码：

广东省珠海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-26	公开	公开
2025-10-28	授权	授权
2024-12-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/075申请日:20240726

共 50 条

[1]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644B ,2025-10-28

[2]

纳米压印光刻胶 [P].

W·史比斯 ;

北文雄 ;

M·梅尔 ;

A·吉尔 ;

M·曼尼戈 ;

P·W·奥利维拉 ;

H·施密特 .

中国专利 :CN100517068C ,2005-08-10

[3]

用于纳米压印工艺的光刻胶及其制备方法和应用 [P].

孙逊运 ;

张盼 ;

温赞伟 ;

李巧玲 .

中国专利 :CN114690563A ,2022-07-01

[4]

用于纳米压印工艺的光刻胶及其制备方法和应用 [P].

孙逊运 ;

张盼 ;

温赞伟 ;

李巧玲 .

中国专利 :CN114690563B ,2025-01-21

[5]

一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

孙玉健 .

中国专利 :CN117706871A ,2024-03-15

[6]

一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

房臣 .

中国专利 :CN117492326B ,2024-08-09

[7]

一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

房臣 .

中国专利 :CN117492326A ,2024-02-02

[8]

一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

孙玉健 .

中国专利 :CN117706871B ,2024-09-24

[9]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

万春旭 ;

张至 ;

程鑫 ;

孙大陟 .

中国专利 :CN105353587A ,2016-02-24

[10]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

李树白 ;

姚培 ;

张启蒙 ;

刘媛 ;

周敏茹 ;

周海浪 ;

杨天宝 ;

花佳淋 .

中国专利 :CN110989297A ,2020-04-10

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