一种纳米压印光刻胶及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201911246961.X

申请日：

2019-12-09

公开(公告)号：

CN110989297A

公开(公告)日：

2020-04-10

发明(设计)人：

李树白姚培张启蒙刘媛周敏茹周海浪杨天宝花佳淋

申请人：

申请人地址：

213161 江苏省常州市武进区湖塘镇滆湖中路33号

IPC主分类号：

G03F7027

IPC分类号：

G03F7004 G03F700

代理机构：

江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309

代理人：

隋玲玲

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-04-10	公开	公开
2020-12-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/027 申请日:20191209

共 50 条

[1]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

万春旭 ;

张至 ;

程鑫 ;

孙大陟 .

中国专利 :CN105353587A ,2016-02-24

[2]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644B ,2025-10-28

[3]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644A ,2024-11-26

[4]

纳米压印光刻胶 [P].

W·史比斯 ;

北文雄 ;

M·梅尔 ;

A·吉尔 ;

M·曼尼戈 ;

P·W·奥利维拉 ;

H·施密特 .

中国专利 :CN100517068C ,2005-08-10

[5]

一种纳米压印设备用光刻胶 [P].

王晶 .

中国专利 :CN106125502A ,2016-11-16

[6]

一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN105242493A ,2016-01-13

[7]

光刻胶纳米压印复合模板 [P].

史晓华 .

中国专利 :CN204287726U ,2015-04-22

[8]

一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

孙玉健 .

中国专利 :CN117706871A ,2024-03-15

[9]

一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

房臣 .

中国专利 :CN117492326B ,2024-08-09

[10]

一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

房臣 .

中国专利 :CN117492326A ,2024-02-02

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