一种纳米压印光刻胶及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510930089.6

申请日：

2015-12-15

公开(公告)号：

CN105353587A

公开(公告)日：

2016-02-24

发明(设计)人：

万春旭张至程鑫孙大陟

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

G03F7004

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

巩克栋;侯潇潇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101651539323 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2015109300896 申请日:20151215
2016-02-24	公开	公开
2019-12-20	授权	授权

共 50 条

[1]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

李树白 ;

姚培 ;

张启蒙 ;

刘媛 ;

周敏茹 ;

周海浪 ;

杨天宝 ;

花佳淋 .

中国专利 :CN110989297A ,2020-04-10

[2]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644B ,2025-10-28

[3]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644A ,2024-11-26

[4]

纳米压印光刻胶 [P].

W·史比斯 ;

北文雄 ;

M·梅尔 ;

A·吉尔 ;

M·曼尼戈 ;

P·W·奥利维拉 ;

H·施密特 .

中国专利 :CN100517068C ,2005-08-10

[5]

一种纳米压印光刻胶表面改性剂 [P].

张剑平 ;

赵彬 ;

王金合 ;

任鑫 ;

施利毅 .

中国专利 :CN102604454B ,2012-07-25

[6]

一种纳米压印设备用光刻胶 [P].

王晶 .

中国专利 :CN106125502A ,2016-11-16

[7]

一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN105242493A ,2016-01-13

[8]

光刻胶纳米压印复合模板 [P].

史晓华 .

中国专利 :CN204287726U ,2015-04-22

[9]

一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

孙玉健 .

中国专利 :CN117706871A ,2024-03-15

[10]

一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

房臣 .

中国专利 :CN117492326B ,2024-08-09

← 1 2 3 4 5 →