一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410018090.0

申请日：

2024-01-05

公开(公告)号：

CN117706871B

公开(公告)日：

2024-09-24

发明(设计)人：

冀然孙玉健

申请人：

青岛天仁微纳科技有限责任公司

申请人地址：

266000 山东省青岛市城阳区城阳街道祥阳路106号青岛未来科技产业园6号厂房

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

代理机构：

山东重诺律师事务所 37228

代理人：

孙建安

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

山东省青岛市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240105
2024-03-15	公开	公开
2024-09-24	授权	授权

共 50 条

[1]

一种快速固化的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

孙玉健 .

中国专利 :CN117706871A ,2024-03-15

[2]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644B ,2025-10-28

[3]

纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN119024644A ,2024-11-26

[4]

一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

房臣 .

中国专利 :CN117492326B ,2024-08-09

[5]

一种低粘的纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

冀然 ;

房臣 .

中国专利 :CN117492326A ,2024-02-02

[6]

一种紫外光固化纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN105242493A ,2016-01-13

[7]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

万春旭 ;

张至 ;

程鑫 ;

孙大陟 .

中国专利 :CN105353587A ,2016-02-24

[8]

一种纳米压印光刻胶及其制备方法 [P].

李树白 ;

姚培 ;

张启蒙 ;

刘媛 ;

周敏茹 ;

周海浪 ;

杨天宝 ;

花佳淋 .

中国专利 :CN110989297A ,2020-04-10

[9]

纳米压印光刻胶 [P].

W·史比斯 ;

北文雄 ;

M·梅尔 ;

A·吉尔 ;

M·曼尼戈 ;

P·W·奥利维拉 ;

H·施密特 .

中国专利 :CN100517068C ,2005-08-10

[10]

一种纳米压印光刻胶表面改性剂 [P].

张剑平 ;

赵彬 ;

王金合 ;

任鑫 ;

施利毅 .

中国专利 :CN102604454B ,2012-07-25

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