光刻掩膜版的良率提升方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210170234.1

申请日：

2012-05-28

公开(公告)号：

CN103454854A

公开(公告)日：

2013-12-18

发明(设计)人：

陈福成

申请人：

申请人地址：

201206 上海市浦东新区川桥路1188号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

H01L21027

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

刘昌荣

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-18	公开	公开
2017-03-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101747578814 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2012101702341 申请公布日:20131218
2014-01-15	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101562723464 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2012101702341 申请日:20120528
2014-02-12	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101691493298 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2012101702341 变更事项:申请人变更前权利人:上海华虹NEC电子有限公司变更后权利人:上海华虹宏力半导体制造有限公司变更事项:地址变更前权利人:201206 上海市浦东新区川桥路1188号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号登记生效日:20140116

共 50 条

[1]

光刻掩膜版的制造方法 [P].

邢滨 ;

张城龙 .

中国专利 :CN107168010A ,2017-09-15

[2]

一种光刻掩膜版 [P].

王峰 .

中国专利 :CN208737213U ,2019-04-12

[3]

掩膜版、基于掩膜版的拼接曝光方法 [P].

李彦辰 ;

李月 ;

李娜 ;

王海龙 ;

李金钰 .

中国专利 :CN109541883B ,2019-03-29

[4]

光刻掩膜以及光刻方法 [P].

黄宜斌 ;

安辉 .

中国专利 :CN102129167B ,2011-07-20

[5]

掩膜版制作方法及掩膜版 [P].

龚建国 ;

刘兴阳 ;

林昌廷 ;

黄展康 ;

隋运武 ;

吕磊 .

中国专利 :CN119352113A ,2025-01-24

[6]

掩膜版及掩膜版组 [P].

陈宁 ;

郭炜 ;

王路 .

中国专利 :CN201974631U ,2011-09-14

[7]

掩膜版及掩膜版组 [P].

陈宁 ;

郭炜 ;

王路 .

中国专利 :CN201974632U ,2011-09-14

[8]

一种光刻掩膜版及其制备方法 [P].

王峰 .

中国专利 :CN109324473B ,2024-09-13

[9]

一种光刻掩膜版及其制备方法 [P].

王峰 .

中国专利 :CN109324473A ,2019-02-12

[10]

石晶晶 ;

褚福川 .

中国专利 :CN207799330U ,2018-08-31

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