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光刻掩膜版的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610129786.6
申请日
:
2016-03-08
公开(公告)号
:
CN107168010A
公开(公告)日
:
2017-09-15
发明(设计)人
:
邢滨
张城龙
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
G03F168
IPC分类号
:
G03F700
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
吴敏
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-06-09
授权
授权
2017-10-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/68 申请日:20160308
2017-09-15
公开
公开
共 50 条
[1]
光刻掩膜版缺陷的修复方法及光刻掩膜版
[P].
王杰
论文数:
0
引用数:
0
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0
王杰
;
秦学飞
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秦学飞
;
薛粉
论文数:
0
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薛粉
;
丛林娜
论文数:
0
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0
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0
丛林娜
.
中国专利
:CN111435218A
,2020-07-21
[2]
制造掩膜版的方法
[P].
陈新晋
论文数:
0
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0
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0
陈新晋
.
中国专利
:CN102043323B
,2011-05-04
[3]
一种光刻掩膜版和光刻掩膜版缺陷的修复方法
[P].
施维
论文数:
0
引用数:
0
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0
施维
.
中国专利
:CN108073035A
,2018-05-25
[4]
光刻掩膜及其制造方法
[P].
古海裕
论文数:
0
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机构:
浙江莱宝科技有限公司
浙江莱宝科技有限公司
古海裕
;
朱泽力
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机构:
浙江莱宝科技有限公司
浙江莱宝科技有限公司
朱泽力
;
王连彬
论文数:
0
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机构:
浙江莱宝科技有限公司
浙江莱宝科技有限公司
王连彬
;
何云富
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0
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机构:
浙江莱宝科技有限公司
浙江莱宝科技有限公司
何云富
;
陈雄达
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0
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机构:
浙江莱宝科技有限公司
浙江莱宝科技有限公司
陈雄达
;
李金军
论文数:
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机构:
浙江莱宝科技有限公司
浙江莱宝科技有限公司
李金军
.
中国专利
:CN118377185A
,2024-07-23
[5]
一种掩膜版、掩膜版系统及制备、光刻方法
[P].
周波
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周波
;
黎关超
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黎关超
;
刘福萌
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刘福萌
.
中国专利
:CN110989288B
,2020-04-10
[6]
掩膜版制作方法及掩膜版
[P].
龚建国
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机构:
潍坊歌尔电子有限公司
潍坊歌尔电子有限公司
龚建国
;
刘兴阳
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机构:
潍坊歌尔电子有限公司
潍坊歌尔电子有限公司
刘兴阳
;
林昌廷
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机构:
潍坊歌尔电子有限公司
潍坊歌尔电子有限公司
林昌廷
;
黄展康
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机构:
潍坊歌尔电子有限公司
潍坊歌尔电子有限公司
黄展康
;
隋运武
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机构:
潍坊歌尔电子有限公司
潍坊歌尔电子有限公司
隋运武
;
吕磊
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机构:
潍坊歌尔电子有限公司
潍坊歌尔电子有限公司
吕磊
.
中国专利
:CN119352113A
,2025-01-24
[7]
光刻掩膜版的良率提升方法
[P].
陈福成
论文数:
0
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0
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0
陈福成
.
中国专利
:CN103454854A
,2013-12-18
[8]
掩膜版及其制造方法
[P].
侯广杰
论文数:
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侯广杰
;
谢超
论文数:
0
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0
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0
谢超
.
中国专利
:CN110928137A
,2020-03-27
[9]
掩膜版及掩膜版的制备方法
[P].
顾明亮
论文数:
0
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机构:
成都奕成集成电路有限公司
成都奕成集成电路有限公司
顾明亮
;
叶超
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0
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机构:
成都奕成集成电路有限公司
成都奕成集成电路有限公司
叶超
;
江俊波
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机构:
成都奕成集成电路有限公司
成都奕成集成电路有限公司
江俊波
.
中国专利
:CN119024636A
,2024-11-26
[10]
一种光刻掩膜版
[P].
王峰
论文数:
0
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0
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0
王峰
.
中国专利
:CN208737213U
,2019-04-12
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