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光刻掩膜版缺陷的修复方法及光刻掩膜版
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910026204.5
申请日：
2019-01-11
公开(公告)号：
CN111435218A
公开(公告)日：
2020-07-21
发明(设计)人：
王杰
秦学飞
薛粉
丛林娜
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号：
G03F172
IPC分类号：
代理机构：
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人：
徐文欣;吴敏
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-08-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/72 申请日:20190111 |
| 2020-07-21 | 公开 | 公开 |