化合物、树脂、组合物、抗蚀图案的形成方法、电路图案形成方法、及纯化方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980086800.0

申请日：

2019-12-25

公开(公告)号：

CN113260645A

公开(公告)日：

2021-08-13

发明(设计)人：

佐藤隆越后雅敏牧野岛高史

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C08G820

IPC分类号：

C07D31182 G03F7004 G03F7038 G03F7039 G03F711 G03F720 G03F726

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-06-14	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C08G 8/20 申请公布日:20210813
2021-08-13	公开	公开

共 50 条

[1]

化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P].

樋田匠 ;

佐藤隆 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN108473639A ,2018-08-31

[2]

化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 [P].

牧野岛高史 ;

堀内淳矢 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN111655662A ,2020-09-11

[3]

化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法及电路图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109476575A ,2019-03-15

[4]

化合物、树脂、组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109715591A ,2019-05-03

[5]

化合物、树脂、组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109790097A ,2019-05-21

[6]

化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法及电路图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109476576A ,2019-03-15

[7]

化合物、树脂和组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109803950A ,2019-05-24

[8]

化合物、树脂、组合物、以及抗蚀图案形成方法和图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109790175A ,2019-05-21

[9]

化合物、树脂、组合物及图案形成方法 [P].

越后雅敏 .

中国专利 :CN109715592A ,2019-05-03

[10]

化合物、树脂、光刻用下层膜形成材料、抗蚀图案和电路图案形成方法及纯化方法 [P].

冈田佳奈 ;

堀内淳矢 ;

牧野嶋高史 ;

越后雅敏 .

中国专利 :CN107848983B ,2018-03-27

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