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化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201980010153.5
申请日：
2019-01-31
公开(公告)号：
CN111655662A
公开(公告)日：
2020-09-11
发明(设计)人：
牧野岛高史 堀内淳矢 越后雅敏
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
C07C43295
IPC分类号：
C07C32130 C08G400 G03F711 G03F720 G03F740 H01L21027
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2020-11-24 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):C07C 43/295 申请日:20190131
2020-09-11 公开 公开
共 50 条
[1]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
樋田匠 ;
佐藤隆 ;
越后雅敏 .
中国专利 :CN108473639A ,2018-08-31
[2]
化合物、树脂、组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109715591A ,2019-05-03
[3]
化合物、树脂、组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109790097A ,2019-05-21
[4]
化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法及电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109476575A ,2019-03-15
[5]
化合物、树脂和组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109803950A ,2019-05-24
[6]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案的形成方法、电路图案形成方法、及纯化方法 [P]. 
佐藤隆 ;
越后雅敏 ;
牧野岛高史 .
中国专利 :CN113260645A ,2021-08-13
[7]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 [P]. 
堀内淳矢 ;
冈田悠 ;
牧野岛高史 ;
越后雅敏 .
日本专利 :CN112218844B ,2024-04-26
[8]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 [P]. 
堀内淳矢 ;
冈田悠 ;
牧野岛高史 ;
越后雅敏 .
中国专利 :CN112218844A ,2021-01-12
[9]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 [P]. 
牧野岛高史 ;
冈田悠 ;
山本拓央 ;
越后雅敏 .
中国专利 :CN113365967A ,2021-09-07
[10]
化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法及电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109476576A ,2019-03-15
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