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化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080012064.7
申请日：
2020-01-31
公开(公告)号：
CN113365967A
公开(公告)日：
2021-09-07
发明(设计)人：
牧野岛高史 冈田悠 山本拓央 越后雅敏
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
C07C3916
IPC分类号：
C07C3917 C07C43205 C07C43215 C07C4323 C07C43263 C07C43295 C07C6954 C07C69712 C07C6996 C07C27148 C08G800 G03F7039 G03F711 G03F720 C07D30323 C07D30324
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-09-07 公开 公开
2022-07-15 发明专利申请公布后的视为撤回 发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07C 39/16 申请公布日:20210907
共 50 条
[1]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 [P]. 
堀内淳矢 ;
冈田悠 ;
牧野岛高史 ;
越后雅敏 .
日本专利 :CN112218844B ,2024-04-26
[2]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 [P]. 
堀内淳矢 ;
冈田悠 ;
牧野岛高史 ;
越后雅敏 .
中国专利 :CN112218844A ,2021-01-12
[3]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法 [P]. 
牧野岛高史 ;
堀内淳矢 ;
越后雅敏 .
中国专利 :CN111655662A ,2020-09-11
[4]
化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
樋田匠 ;
佐藤隆 ;
越后雅敏 .
中国专利 :CN108473639A ,2018-08-31
[5]
化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN110023276A ,2019-07-16
[6]
化合物、树脂、组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109715591A ,2019-05-03
[7]
化合物、树脂、组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109790097A ,2019-05-21
[8]
化合物、树脂和组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109803950A ,2019-05-24
[9]
化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法及电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109476575A ,2019-03-15
[10]
化合物、树脂、组合物以及抗蚀图案形成方法及电路图案形成方法 [P]. 
越后雅敏 .
中国专利 :CN109476576A ,2019-03-15
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